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氢化物发生法特点: 产生氢化物与基体元素分离,消除基体效应 具有预富集和浓缩的效能,进样效率高; 易于实现自动化; 可以进行元素价态分析; 无法分析不能形成氢化物或挥发性化合物的元素; 氢化物发生法存在液相和气相等干扰。 AFS特点: 较低的检出限、较高的灵敏度、较少的干扰、吸收谱线与发射谱线比较单一、标准曲线的线性范围宽(3~5个数量级); 仪器结构简单且价格便宜,由于原子荧光是向空间各个方向发射,比较容易设计多元素同时分析的多通道原子荧光分光光度计; 定量分析主要采用标准曲线法,也可以采用标准加入法。 4.5.3 分析应用 图4-11 石墨炉原子化器结构示意图 内保护气:带走基体蒸气;保护已经原子化了的原子不被氧化。 (2) 石墨炉原子化法的升温程序: 干燥(除去溶剂和水分,稍高于溶剂沸点,一般20~60s) 灰化(除去易挥发的基体物质) 原子化(一般为2~5s) 除残(避免记忆效应) 图4-12 石墨炉原子化法升温程序示意图 (3) 基体改进技术(matrix modifier) 改善基体物理特性 改善原子化过程 (4) 石墨炉原子化法的特点 可达3500℃高温,且升温速度快; 绝对灵敏度高,一般元素的可达10-9~10-12 g; 可分析70多种金属和类金属元素; 所用样品量少(1~100 μL); 但是石墨炉原子化法的分析速度较慢,分析成本高,背景吸收、光辐射和基体干扰比较大。 3. 低温原子化法 (1) 冷原子化法(cold atomization) Hg2+ + Sn2+ ? Sn4+ + Hg (2) 氢化物发生法(hydride generation method,HGAAS) 4.2.3 原子吸收分光光度计的性能指标 光学系统的波长显示值误差(以Cu、Mg、Ca灯检验,±0.2nm); 光学系统分辨率(以Mn双线检验); 基线稳定性; 吸收灵敏度(S1%,产生1%吸收时对应的元素含量,也称特征浓度); 精密度,RSD3%(FAAS)或5%(GFAAS); 检出限; (mg/L/1%) (mg/1%) 特征质量 FAAS GFAAS 特征浓度S1%:产生1%吸收时对应的元素含量 4.3 干扰及其消除 4.3.1 物理干扰及其消除方法 1. 物理干扰(physical interference) 由于样品物理性质变化而引起吸收信号强度变化,属于非选择性干扰。 (负干扰) 2. 减小或消除方法 (1) 配制基体一致的标准溶液; (2) 标准加入法; (3) 稀释法(被测元素浓度较高)。 4.3.2 化学干扰及其消除方法 1. 化学干扰(chemical interference) 由于被测元素与基体组分发生化学反应影响蒸发、解离和原子化过程,属于选择性干扰。(通常为负干扰) 2. 减小或消除方法 (1) 改变火焰类型; (2) 改变火焰特性; (3) 加入释放剂; (4) 加入保护剂; (5) 加入缓冲剂; (6) 采用标准加入法。 4.3.3 电离干扰及其消除方法 1. 电离干扰(ionization interference) 由于易电离元素电离,使参与原子吸收的基态原子数减少。(负干扰) 2. 减小或消除方法 (1) 加入消电离剂; (2) 采用低温火焰; (3) 标准加入法; (4) 提高金属离子总浓度。 4.3.4 光谱干扰及其消除方法 1. 光谱干扰(spectral interference) 包括光谱通带内存在的谱线干扰以及背景吸收产生的干扰。 2. 减小或消除谱线干扰的方法 (1) 减小狭缝; (2) 选择其它分析线; (3) 预先分离干扰元素。 3. 减少或消除直流发射干扰:光源调制。 4. 减小或消除非吸收线光谱干扰:减小狭缝,减小灯电流。 4.3.5 背景吸收与校正 (background absorption and correction) 1. 分子吸收与光散射 均产生正误差。 2. 背景校正技术 (1) 氘灯背景校正技术 仅适用于紫外区 (2) Zeeman(塞曼)效应背景校正技术(GFAAS必须采用) 正向Zeeman效应扣背景 反向Zeeman效应扣背景 交变磁场调制 恒定磁场调制 图4-15 反向Zeeman效应背景校正技术原理示意图 4.4 原子吸收光谱法分析 4.4.1 仪器操作条件的选择 HCL电流选择:保证足够光强且稳定条件下尽量使用较低的工作电流。 吸收谱线选择:最灵敏线,除非有其它谱线干扰或待测元素含量较高可选用其它谱线。 光谱通带选择:不引起吸光度减小的最大狭缝宽度。 进样量的选择。 4.4.2 火焰原子化法最佳条件选择 1. 火焰的类型与特性选择 2. 燃烧器高度的选择 3. 火焰原子化器吸喷速率 4.4.3
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