光学薄膜制备绪论课资料.pptVIP

热电阻加热 特点： 结构简单、成本低廉、操作方便； 电阻片加热温度有限，高熔点的 氧化物大多无法蒸镀 蒸发速率低； 合金或化合物加热会导致分解。 膜质不硬，密度不高 蒸发源材料： 钨（W,TM=3380℃） 钼（Mo,TM=2980℃） 钽（Ta,TM=2630℃）等 电子枪蒸镀法 特点： 比起热电阻污染少，膜品质较高； 蒸发范围广，可蒸镀熔点较高之氧化膜 热效率高、热传导和热辐射损失小 可以镀多层膜 镀膜过程中使用不同材料需要不时调换 磁控溅镀 特点： 利用磁场作用，提高溅镀速率 提高薄膜的品质 磁场会把电子偏离基板，故可以在一些较不耐温的基板上镀膜 可以做成连续的溅镀系统，连续工作 离子束溅镀 特点： 制作的薄膜密度高，散射小 膜折射率稳定均匀，膜厚精准 可以配合其他制镀方法，提高制镀速率 增加了控制的自由度 离子束助镀 特点： 配以蒸镀或溅镀系统，提高镀膜速率 成膜纯度高，膜变得更缜密 光谱特性稳定 提高了膜层折射率的均匀性 镀膜厚度监控的方法 石英晶体监控法 特点： 石英晶体振荡的频率与晶体上薄膜的质量成反比 是一种薄膜质量测量方法，它也被称为质量微天平 厚度显示不稳定，做精密光学薄膜数据只作参考，只作为镀膜速率的控制 光学膜厚监控系统 光学参数测量 由分光光度计量出薄膜的透射率及反射率进而推算出n、k、d 光度法：量测光穿透或反射自薄膜后的变化求得n\k\d 椭圆偏振法：以偏振光经薄膜反射后量测其光振幅及相位变化求得 利用商品化的分光光度计和光谱分析仪量出穿透率和反射率等 光学特性测量 双光路分光光度计 非光学特性测量 基板工艺 基片的种类： 玻璃(冕牌玻璃，火石玻璃) 晶体 塑料 陶瓷 金属  基片的清洗： 洗涤剂、 化学药品、 超声波清洗、 离子轰击、 手工擦拭、 紫外线和臭氧等 光学薄膜材料 常用光学薄膜的材料从化学组成上可分为：氧化物、氟化物和金属合金 氧化物材料：具有熔点高，比重大，高折射率和高机械度， 膜质硬的特点，如二氧化钛，氧化硅等 氟化物材料：具有熔点低，小比重，低折射率和较差机械度，膜软，怕水的特点。如氟化镁，冰晶石等 金属合金：一般金属具有较强的反光性和吸光性，因此金属（或合金）材料一般作为反光薄膜材料或光调节材料。 光学薄膜应用实例： 眼镜镜片： ·镜片材料主要是氧化物如二氧化硅，氧化镁，氧化锌，氧化铝，氧化钠，氧化钾等等。 ·UV光学白片添加少量的氧化钛或氧化铈等吸收紫外线，最普遍防紫外线优质白色镜片 ·光学玻璃成分中添加卤化银等化合物使镜片在紫外线照射下分解成银河卤素原子，颜色由浅变深。 ·有色玻璃镜片主要是镀了不同的氧化物产生颜色起到一定的作用，如添加氧化锰，氧化铁，氧化镍等着茶色作太阳镜防眩光。 太阳能电池 ·裸硅表面的反射率在30%以上 ·将电池表面腐蚀成绒面或者多孔状(增加光与半导体表面作用的次数,同时会使电池温度升高) ·镀上减反射膜(SiO2/SnO2/TiO2/SiNx/SiCx等) ITO镀膜 ·氧化铟锡（即Indium Tin Oxide, 简称ITO）材料是一种n型半导体材料，在In2O3掺入SnO2. ·具有高的导电率、高的可见光透过率、高的机械硬度和化学稳定性 ·液晶显示器（LCD）、等离子显示器（PDP）、电致发光显示器（ EL/OLED）、触摸屏（Touch Panel）、太阳能电池以及其它电子仪表的透明电极最常用的材料。 带有ITO薄膜层控制液晶的运动 THE END * * 光学薄膜制备 H. A. Macleod（麦克劳德），Thin-Film Optical Filters, Bristol Philadelphia,2001. 《光学薄膜技术》，作者：卢进军、刘卫国，西北工业大学出版社。 《现代光学薄膜技术》，作者：唐晋发 、顾培夫，浙江大学出版社 主要参考教材： 生活中的光学薄膜 光学薄膜的类型与符号 减反射镜 减少光学元器件表面的反射光，提高透射光 高反射镜 只取反射光，尽量减少透射光 金属反射膜 多层介质反射膜 透 射 率 双色分光镜原理图 偏振分光镜原理图 S P 中性分光镜 分光镜 * S 分量 P分量 偏振分光鏡:1.65/(HL)5 H/1.65 ?0=500nm,?=45o 在某波段不透光而相邻的另一波段有很高的透射率的一种光学器件 截止滤光片 长波通滤光片 短波通滤光片 实际应用：冷光镜、彩色分光膜等 带通滤光片 指某波段域内透射率很高而其两旁透射率甚低的滤光片 典型结构：Fabry-Perot型滤光片 Transmittance% 实际应用：光纤通讯行业，数码，投影仪等 光学薄膜在投影机上的各种应用 减反膜，偏振分光膜 高射反膜 减反膜，分色膜，截止