化学镀非晶态Ni-P层的初期沉积过程研究.pdfVIP

第 3 卷　第 4 期 电化学 V o l. 3　N o. 4 1997 年 11 月 EL ECTROCH EM ISTR Y N ov. 1997 化学镀非晶态 - 层的初期沉积过程研究① N i P 迟　毅 　　张　磊　　王毅坚　　马茂元 ( 哈尔滨工程大学化学工程系　哈尔滨　150001) 摘要　化学镀非晶态 镀层初期沉积过程和沉积层状态是影响结合强度的决定性因素. N i P 对不同基体材料初期沉积的观察发现, 有些非晶态镀层的初期沉积中含有微晶. 微晶的产生与否 与基体材料以及镀层材料晶格的错配度有关, 当镀层与基体材料点阵常数相差不大, 镀层的初期 沉积沿基体晶格外延生长出现微晶层, 反之, 点阵常数相差较大时, 初期沉积物中未发现微晶.