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复合载体TiO2SiO2的气相吸附法制备及MoO3在其表面上的分散状态.pdf
复合载体TiO2/SiO2的气相吸附法制备及MoO3
在其表面上的分散状态
邓 存*段连运** 徐献平 谢有畅
北(京大学物理化学研究所,北京 100871)
用气相流动吸附法制备了TiO2/SiO2复合载体,用浸渍法制备了MoO3/(TiO2/SiO2)催
化剂。应用XRD和蚅LRS等技术研究了TiO2在SiO2表面及MoO3在TiO2/SiO2表面上的分散
状态。结果表明,TiO2在复合载体中的含量低于其分散阈值时,它在SiO2表面呈单层但非
密置单层分散;MoO3在催化剂中的含量低于其分散阈值时,它在复合载体表面亦呈单层但
非密置单层分散。TiO2与SiO2之间、MoO3与TiO2/SiO2之间相互作用都较弱。TiO2在SiO2
表面的分散可改善MoO3的分散状态,提高MoO3在SiO2表面上的分散阈值。
关键词:气相吸附法,复合载体,分散状态,钼系催化剂
以MoO3为主要活性组分的催化剂,可用于石油炼制中的加氢裂解、加氢脱硫及加
氢脱氮。以SiO2作为钼系催化氧化催化剂的载体,可使活性组分以微晶形式存在,有
利于反应利用活性组分的晶格氧[1]。MoO3在SiO2表面的分散状态的研究已有一些报
道[25],但对用气相吸附法制备TiO2/OS2i 复合载体以及MoO3负载在该载体表面的
分散状态等却研究得很少。本文对此进行了研究。
实 验 部 分
1TiO2/SiO2复合载体的气相流动吸附法制备:制备方法和实验装置详见文献[6]。将
一定量的粒度为20 40目的SiO2粗(孔硅小球,923K焙烧24h,Sg=371m2/g,平均孔
径约为3.6nm)装于U型脱样品管内,通入流速为21m1/min的高纯N2,原位773K焙烧3
小时进(一步除H2O),冷至室温,再通入以同样流速的N2携带的TiCl4蒸气使之吸附在
SiO2上。吸附达平衡后,速将样品管移出,待TiCl4在室温下充分水解后,移入马弗炉
中按一定程序升温至823K,恒温3小时。样品中TiO2载量由SiO2经吸附TiCl4、水解
和焙烧后增重得到。
2催化剂制备:MoO3/(TiO2/SiO2)催化剂用浸渍法制备。含TiO213.8%的TiO2/
SiO2相(当于0.160gTiO2/gSiO2)样品为典型复合载体。将一定量该载体置于小坩埚
1991年12月23日收到。
*现在福建宁德师范专科学校工作。 **通讯联系人。
中,按不同MoO3含量滴加已知浓度的钼酸铵溶液,搅拌,加热浸渍,蒸干,在393K
烘8小时,再在723K焙烧24小时。
3X射线衍射 X(RD)分析:实验方法和条件同文献[6]。XRD相定量测定采用内标参比
强度法,选用参比物KNO3的0(12)衍射峰 (2=29.4)、TiO2的 1(01)衍射峰2(=
25.28)和蚆MoO3的0(40)衍射峰 2(=25.7),分别对TiO2/SiO2,MoO3/(TiO2/SiO2)
体系进行强度测量。
4激光喇曼光谱(LRS)测定:实验方法和条件同文献[6]。LRS相定量测定采用与XRD
相类似的参比强度法,以KNO3为参比物,选用喇曼位移为 1052cm-1的KNO3特征喇
曼峰和位移为146cm -的TiO2特征喇曼峰、位移为996cm-1的MoO3特征喇曼峰,分别
对TiO2/SiO2,MoO3/(TiO2/SiO2)体系进行强度测量
结 果 与 讨 论
1TiO2在SiO2表面的分散状态和最大分散量
1.1XRD定性和相定量分析:由TiO2/SiO2系列样品的XRD图 (图1)可见,当TiO2载
量较高时[图中(3) (9)],出现TiO2的衍射峰,且峰的强度随TiO2载量的增加而增
大;当TiO2载量较低时[图中(1) (2)],未出现TiO2的晶相峰。
将上述TiO2/SiO2样品进行XRD相定量测定,以TiO2晶相量对载量作图,见图
2.图中直线与横坐标的交点定义为TiO2在SiO2表面的最大实验分散量 分(散阈值),
该值为0.130gTiO2/9SiO2,相当于0.035gTiO2/00m2SiO2。若按TiO2在SiO2表
面作密置单层排列模型计算[7,TiO2的单层分散量应为0.098gmTO/0022i1
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