2010届高三化学有机推断与合成.pptVIP

* 有机化学 有机推断与合成 典型例题 考 点 解 剖 考点1—反应信息的辨析和变形 已知烯烃、炔烃在臭氧作用下发生以下反应： CH3CH＝CHCH2CH＝CH2 CH3CHO＋OHC–CH2CHO＋HCHO CH3C≡C–C≡CH CH3COOH＋HOOC–COOH＋HCOOH O3 H2O H2O O3 （1）化学式为C10H10的某烃，在臭氧作用下发生反应为： C10H10 CH3COOH＋3HOOC–CHO＋CH3CHO 则此C10H10的结构简式为： O3 H2O CH3–CH＝CH–C≡C–CH＝CH–C≡C–CH3 典型例题 考 点 解 剖 考点1—反应信息的辨析和变形 已知烯烃、炔烃在臭氧作用下发生以下反应： CH3CH＝CHCH2CH＝CH2 CH3CHO＋OHC–CH2CHO＋HCHO CH3C≡C–C≡CH CH3COOH＋HOOC–COOH＋HCOOH O3 H2O H2O O3 （2） 则A的结构简式为： 邻苯二甲酸酐 在紫外光的作用下，能形成一种安 定性很小、反应性很强的物质A，人们至今没有把A独立地分离出来，只能在低温下（8K）观察其光谱，或用活性试剂截获。例如，用1,3环己二烯（ ）截获A，可得 ；若用呋喃（ ）来截获A，可得产物B。A物质在惰性溶剂中，可自身聚合生成一系列产物C、D、E……，C的结构简式是 请画出A、B、D（分子式C18H12）的结构简式。 考 点 解 剖 已知： 迁移训练 1 考 点 解 剖 已知： 迁移训练 1 A、 ； B、 ； D、 。 光刻胶是大规模集成电路、印刷电路板和激光制版技术中的关键材料。某一肉桂酸型光刻胶的主要成分A经光照固化转变为B。 考 点 解 剖 迁移训练 2 （1）请写出A中含有的官能团 （填两种）。 （2）A经光照固化转变为B，发生了 （填反应类型）。 酯基、碳碳双键、苯环 加成（加聚）反应 光刻胶是大规模集成电路、印刷电路板和激光制版技术中的关键材料。某一肉桂酸型光刻胶的主要成分A经光照固化转变为B。 考 点 解 剖 迁移训练 2 （3）写出A与NaOH溶液反应的化学方程式： （4）写出B在酸性条件下水解得到的芳香族化合物的分子式： C18H16O4 典型例题 考 点 解 剖 考点2—有机推断 在一定条件下，烯烃可发生臭氧化还原水解反应，生成羰基化合物，该反应可表示为： 已知： ① 化合物A，其分子式为C9H10O，它既能使溴的四氯化碳溶液褪色，又能与FeCl3溶液发生显色反应，且能与金属钠或NaOH溶液反应生成B； ② B发生臭氧化还原水解反应生成C，C能发生银镜反应； ③ C催化加氢生成D，D在浓硫酸存在下加热生成E； ④ E既能使溴的四氯化碳溶液褪色，又能与FeCl3溶液发生显色反应，且能与NaOH溶液反应生成F； ⑤ F发生臭氧化还原水解反应生成G，G能发生银镜反应，遇酸转化为H（C7H6O2）。 典型例题 考 点 解 剖 考点2—有机推断 在一定条件下，烯烃可发生臭氧化还原水解反应，生成羰基化合物，该反应可表示为： （1）写出下列化合物的结构简式（如有多组化合物符合题意，只要写出其中的一组） A C E 请根据上述信息，完成下列填空： 典型例题 考 点 解 剖 考点2—有机推断 在一定条件下，烯烃可发生臭氧化还原水解反应，生成羰基化合物，该反应可表示为： 请根据上述信息，完成下列填空： （2）写出分子式为C7H6O2的含有苯环的所有同分异构体的结构简式：。 由A的化学式计算比饱和时H的数目少10，可猜测A中含苯环和1条碳碳双键。H含7个C，推得C、D、E、F含8个碳。所以B中3个C只能在一个侧链上，且碳碳双键在末端。 1834年德国科学家米希尔里希通过蒸馏苯甲酸和石灰的混合物得到苯。苯是重要的化