触摸屏ITO制程报告.pptVIP

1、触摸屏产业链 1.2 电阻/电容式触摸屏供应链 1.3 台系触控面板产业价值链 1.4 电阻/电容式触摸屏价值链比较 2、电阻式触摸屏 2.1 电阻式触摸屏结构 2.2 电阻式触摸屏主要材料规格要求 2.3 四线电阻式触摸屏定位原理 2.4 电阻式触摸屏实物图 2.5 四线电阻式触摸屏制作流程 A）电阻触摸屏ITO玻璃面的处理 B）电阻触摸屏ITO Film面的处理 C）电阻触摸玻璃与Film贴合 2.6 主要电阻式触摸屏技术介绍 3、电容式触摸屏 电容触控面板另一种ITO制程 3.4 ITO图形形状 原则：图形之间的相互连线避免过长，连线太长，扫描电阻大，扫描时间长；通常菱形是最常见的图形形状。 3.5 菱形ITO图形的具体要求 3.6 ITO图形与外围金属线的连接 端电阻取决于ITO面阻抗值、pattern长度及长宽比例 ITO pattern端电阻值愈小, 则电容感应讯号愈强 IC处理反应时间愈短 质量较佳的电容式触控解决方案取决于Touch IC感测及pattern设计 现阶段应用于2.8” Film-Type Sensor之ITO-Film面阻抗值约300Ω/ □ 3.7 触控面板大尺寸化对ITO镀膜质量要求更高 In Cell Capacitive Touch Panel Technology Structure On Cell Capacitive Touch Panel Technology Structure 3.8内嵌式多点触控面板 所谓内嵌式多点触控面板(In-Cell Multi-Touch Panel) ，是指触控功能直接整合于面板生产制程中，不需校正，不必再加一层触控玻璃，从而可维持原面板的薄度仅2.2mm，相对轻薄，且光能利用率更高。 具体是在先前TFT LCD 用ITO电极的基础上，再加上一层ITO 作为电容触控层，这是在TFT LCD工厂现有设备制程上非常容易实现，只是由于TFT本身噪声非常高，对电容感测控制电路有干扰，使得大面积In-Cell Multi-Touch Panel难度更高。 END * * 触摸屏ITO制程 类似LCM封装制程 1.1 触控面板原材料介绍 1978～2008年的有效专利件数中，日本的专利件数占整体的52％。第二位为美国的23％，第三位为南韩的20％。日本和美国的专利网遍布于面板、相关部材以及用户介面等触控面板相关的各领域，而南韩的触控面板相关专利较偏重于面板部分，其占全部的76％。 1.5 触控面板专利分布情况 电阻式触摸屏的主要两大原材料是上层的ITO膜和下层的ITO玻璃，它们占触摸屏材料成本的一半以上，电阻式触摸屏的总可见光透过率一般在80%左右。 ITO玻璃区域划分 ITO玻璃侧ITO刻蚀 玻璃上印刷Spacer 印刷玻璃面Ag线 玻璃印刷绝缘胶 ins-1 玻璃印刷绝缘胶 ins-3 ITO Film侧ITO刻蚀 印刷ITO Film侧Ag线 3.1 投射电容式触摸屏结构、原理 在两个不同导电基材上（或同一导电基材的正反两面），分别有平行的X导线与Y导线；导线相互垂直但却不在同一表面，每个X、Y相交处即形成一电容节点。对导电基材上的导线（驱动线driver line）供以特定振幅与频率的交流电压，另一组导线此时即形成回路以侦测电容改变量（感应线sense line）。 操作时控制器交互提供电压至其中一组导线，使每个节点上的电容耦合（coupling）造成驱动线和每一相交的感应线有微小电流；当手指接近一个或多个节点时，会吸走部份电流，进而改变了节点上的电容值。控制器交互扫描感应在线每个节点电容值改变，利用3个以上电容改变的节点来估计触动的实际位置。 投射电容式触摸屏最大的优势是触动无须直接接触、支持多点触控，面板可置于透明基材下方而得到良好的保护，触动可经由手指或特殊笔，即便是带着手套亦可以使用投射电容式面板。投射电容触摸面板的核心工艺是双面ITO玻璃多层膜制程。 最内层SiO2膜厚约为15nm，主要是起增加Glass与ITO膜的附着力和平整性的作用； 最外层SiO2膜厚约为100nm，主要是起表面钝化和保护作用； 正反面ITO层膜厚约为15nm，用于屏的可视区ITO Pattern凸显的走线，做电极用； 背面驱动层中Mo/Al/Mo三层膜厚约为350nm(50nm/250nm/50nm)，用于屏的外围非可视区的走线。其中双层ITO和MO/AL/MO层都需要在后续制程中通过光刻进行图形化，不同的厂家在外围电路走线材料方面的选取会有所差异。 3.2 双面ITO玻璃的多层膜结构 ITO sputter B side SM printing A sid