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09届本科毕业设计(论文)外文 文献翻译 学 院： 物理与电子工程学院 专 业： 光电信息工程 姓 名： 徐 驰 学 号： 外文出处： Surface Coatings Technology 214（2013）131-137 附 件： 1.外文资料翻译译文；2.外文原文。 附件1：外文资料翻译译文 气体温度通过PECVD沉积对Si：H薄膜的结构和光电性能的影响 摘要 气体温度的影响（TG）在等离子体增强化学气相沉积法（PECVD）生长的薄膜的结构和光电特性：H薄膜已使用多种表征技术研究。气体的温度被确定为制备工艺的优化、结构和光电薄膜的性能改进的一个重要参数。薄膜的结构性能进行了研究使用原子力显微镜（AFM），傅立叶变换红外光谱（FTIR），拉曼光谱，和电子自旋共振（ESR）。此外，光谱椭偏仪（SE），在紫外线–可见光区域的光传输的测量和电气测量被用来研究的薄膜的光学和电学性能。它被发现在Tg的变化可以修改的表面粗糙度，非晶网络秩序，氢键模式和薄膜的密度，并最终提高光学和电学性能。 介绍 等离子体增