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扫描电子显微分析 扫描电子显微统几乎广泛应用于各个领域：材料、冶金、矿物、半导体，生物医学、物理、化学等学科，其原因是它具有下列主要特点： (1)分辨本领高，二次电子像的分辨率达3nm（钨灯丝）0.5nm (Titachi S5200)。 (2)放大倍率可以方便地在20倍至20万倍左右的范围连续变化得到高亮度的清晰图像。 (3)景深长，视野大，成像富有立体感，可以直接观察各种试样凹凸不平表面的细微结构。 (4)试样制备简单。金属等导电的试样可以直接放入扫描电子显微镜中观察。对非导电的试样，可以在真空中将表面喷涂一层金属薄膜，或在较低的加速电压下直接观察。 日前的扫描电子显微镜都配有X射线能谱仪装置， 还可装有电子背散射衍射装置（EBSD），这样可以同时进行显微组织形貌的观察、微区成分分析以及晶体结构分析。因此，它像透射电子显微镜一样，是当今十分有用的科学研究仪器之一． 成像原理 聚细电子束(1?10nm)扫描样品表面，激发产生多种电子和光子信号。信号被收集、检测、放大，在CRT上调制成像。 工作模式成像方式: 二次电子像（SE）、背散射电子像（BSE）、 吸收电子像（AE）、阴级荧光像（CL）、 电子束感生电流像（EBIC）