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IC ESD Design and Test;Description
ESD介绍及测试方法介绍
ESD protect设计
ESD plan
ESD 测试pattern规划
ESD FT测试
ESD FT测试后判断及后续相关工作
Process 对ESD的影响;题目为MCU Chip Level ESD design and test,只是介绍IC的ESD的设计和测试。不是系统级(PCB+IC) 或者 工厂级(工厂环境下的ESD防护).
目前只做过MCU产品,对于多媒体产品可能有一些其它的防护,不做讨论.; 因ESD产生的原因及其对集成电路放电的方式不同,经过统计,ESD放电模型分下列四类:
(1) 人体放电模式 (Human-Body Model, HBM)
(2) 机器放电模式 (Machine Model, MM)
(3) 组件充电模式 (Charged-Device Model, CDM)
(4) 电场感应模式 (Field-Induced Model, FIM)
如果是消费类电子产品,HBM和MM是必测的。对于CDM是可选的。
对于FIM,应该是不需要。
后面只对HBM和MM进行讲解。;人体放电模式 (Human-Body Model, HBM);HBM 测试;机器放电模式 (Machine Model, MM);对于机器放电,应该在wafer级测试上,就有可能遇到.
在die saw,或者pakage时,应该也会遇到
另外在IC到客户的工厂里,也有可能遇到。
之前公司的芯片ESD测试结果看来,MM比HBM更worse。
所以MM对于芯片应该是必测项,这是芯片品质的保证,良率的保证。;HBM, MM与CDM模型参数比较;HBM, MM与CDM比较;ESD对集成电路的损坏形式;ESD损伤机理;HBM和MM测试方法;HBM和MM测试方法;I/O Pin to Power;Internal ESD damages under ND-mode ESD stress on input pin ;Internal ESD damages under ND-mode ESD stress on input pin ;Internal ESD damages under ND-mode ESD stress on output pin ;Internal ESD damages under ND-mode ESD stress on output pin ;PIN to PIN ESD test;PIN to PIN ESD test;Internal ESD damage due to input pin to output pin ESD stress;Internal ESD damage due to pin to pin ESD stress;Internal ESD damage due to output pin to input pin ESD stress;Internal ESD damage due to pin to pin ESD stress;pin to pin ESD stress conclusion;VDD to VSS ESD Test;Internal ESD damage due to VDD to VSS ESD stress;Internal ESD damage due to VDD to VSS ESD stress;ESD protect conclusion;31;其它;ESD 要求;ESD防护设计;ESD防护设计;ESD防护设计;ESD防护设计;ESD防护设计;ESD防护设计;ESD防护设计;Schematic of multiple power ESD protection design;ESD flow;在设计whole chip之前,首先会做floor plan. 完成后,IO,power pad的摆放位置就确定了。
此时需要ESD plan规划ESD power line,clamp电路的摆放位置等。
原理是ESD必须走高速通道,要很快的泄放出去,而不能在IC内部积累导致internal damage。
;ESD plan;芯片打ESD之前应规划好ESD测试pattern,目的是使ESD测试更有效,而且后续FT验证也更有效率。
打ESD之前pakage的芯片应该先测过,保证打ESD的chip function及standby current都是正确的.
ESD damage 主要在测试上的表现形式就是function fail, 及junction leakage, 还有就是和时间有关的可靠性,这个不太好测。
测试pattern的规划要兼顾FT测试的效率,原则上第一次测
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