激光快速退火对NiMnNiFe双层膜结构与磁性能的影响.pdfVIP

退火处理和激光快速退火处理对样品的交换偏置场?蟢?徒猛缌Β璧却判阅?降趋势；随着靶基距的增大，?原子含量逐渐升高，并在?衄左右趋于稳摘要并且如大小与口相的转变量呈正相关。在常规退火处理下，?嗟淖1淞克孀??竦玫模プ畲?????№?激光辐照下获得的风最大??．?利用高真空磁控溅射镀膜机制备了?原子含量在???????的??薄的影响规律和作用机理。研究结果表明：对于??薄膜而言，随着溅射气压的升高，?原子含量先降低后升高，定；随着基片温度的升高，?含量逐渐增加，在??媸贝锏阶畲笾岛笾鸾?稳定；溅射功率对?原子含量影响效果不明显。而??薄膜的成分随溅射条件的变化较小。在两种退火条件下，??薄膜都能发生由’，相转变为?嗟南啾涞墓?蹋?退火温度、退火时间变化，在??嫦峦嘶??风随着退火温度升高略有增大；在激光快速退火处理下，口相的转变量主要取决于激光辐照的能量密度，在??明显大于前者，主要由于激光快速退火处理可以有效抑制??／??界面处?元素的扩散，风的变化则不太明显。关键词：磁控溅射镀膜激光快速退火膜，并在此基础上沉积了磁性双层膜。分析了溅射气压、溅射功率、基体负偏压、靶基距、基体温度等溅射工艺参数对薄膜成分的影响特点，并研究了常规并在???达到最大值后逐渐稳定；随着基体负偏压的升高，?原子含量呈下??薄膜磁性能??? ‰???????㈣??????甌?如?????鷈???瑃???鷈?簂???????????????甌???????时???．??飜????甌???????????鏦???．???????甒????．???，????／????Ⅳ??～??％?????；????，??????????????．??，??????????????，????????瑃???．??，??????瑆????????瓾???????鬽????，??????????．?????甀? ：??????????；????；?????／??瑆???????瓾???????????????；??????????????甀? 目录激光退火技术????????????????????????．?本课题研究内容、意义以及主要技术路线???????????????绪论????????????。??????????????????????????????????国内外研究现状?????????????????????????．?巨磁电阻效应????????????????????????．?交换偏置效应????????????????????????．???薄膜研究现状???????????????????????主要研究内容及意义??????????????????????主要技术路线?????????????????????????样品沉积和退火设备以及测试方法??????????????????????样品制备仪器???????????????????????????磁控溅射设备?????????????????????????激光退火设备?????????????????????????分析测试设备及原理????????????????????????扫描电子显微镜及能谱??????????????????????湎哐苌湟恰?????????????????????????振动样品磁强计????????????????????????薄膜样品的制备??????????????????????????????实验材料及前期预处理???????????????????????薄膜制各工艺流程?????????????????????????离子反溅清洗?????????????????????????薄膜沉积过程??????????????????????????薄膜制备工艺参数?????????????????????。?溅射气压对??薄膜成分的影响????????????????基体负偏压对??薄膜成分的影响????????????????????．? 溅射功率对??薄膜成分的影响????????????????薄膜的沉积速率测定????????????????????????激光快速退火处理?????????????????????????本章小结?????????????????????????????靶基距对??薄膜成分的影响?????????????????基体温度对??薄膜成分的影响??????????????????薄膜的制备工艺参数????????????????????一?退火处理方式对??／??薄膜的结构和磁性能影响??????????????常规退火处理???????????????????????????退火温度对??／??薄膜磁性能的影响?