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离子镀技术制备减磨耐磨层及其摩擦磨损机理 报告人：×× 导师：××× 日期：20××-×-× 主要内容 离子镀原理 离子镀的分类 离子镀技术制备的减磨耐磨层的摩擦磨损机理 2 一、离子镀原理 离子镀膜技术（简称离子镀）是美国Sandia公司的D.M.Mattox于1963年首先提出来的，是在真空蒸发和真空溅射技术基础上发展起来的一种新的镀膜技术。 离子镀的英文全称ion plating，简称IP。它是在真空条件下，应用气体放电实现镀膜，即在真空室中使气体或被蒸发物质电离，在气体离子或被蒸发物质离子的轰击下，同时将蒸发物或反应产物蒸镀在基片上。 3 一、离子镀原理 右图是离子镀技术原理示意图，当真空室抽到10-3~10-4pa后，通入惰性气体使真空度达到1pa~3pa，接通高压偏压电源，在蒸发源和工件之间产生辉光放电，获得的高能惰性气体离子和原子轰击工件表面，将表面吸附的残余气体和污染层溅射下来，形成氩离子的轰击净化作用。 4 一、离子镀原理 随后，开启蒸发源形成蒸发材料蒸气，蒸发的粒子进入等离子体区，并与等离子体区的高能电子非弹性碰撞而被部分电离；被电离的蒸发材料离子和惰性气体离子受到工件负偏压的吸引，以较高的能量到达工件，并沉积成膜。 离子镀成膜过程中所需的能量不是靠加热方式获得的，而是由于电离碰撞以及离子被电场加速获得的，其能量比