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- 2016-08-12 发布于湖北
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特殊气体的操作和安全运行知识
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特殊气体和大宗气体的供应方式
安全预防
操作要求
目录
第一部分
特殊气体和大宗气体的供应方式
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大宗气体N2、O2、Ar常用的供应方式以固定式的大型桶槽为主,将桶槽
安置于厂区附近,架构独立的供应区与土木基础,以槽车定期进行填灌
,高压的液态气体经蒸发器蒸发为气态后,供应现场使用,若有纯化的
需求则需透过气体纯化机将气体精制成生产线需求的规格使用;H2则经
常使用两座多组钢瓶串接的方式进行供应,当一座的气体使用完后,另
一座的气体将自动接续供应,使供气不致中断,并以整座串接钢瓶更换
的方式进行气体的补充。此外,也有所谓的on-site供应方式,将需求的
气体于现场直接制造供应生产线;另有由气体供货商直接架设地下管路
进行集中式的供应,就像目前天然气供应方式。但此法因管线太长,且
埋设于地下,供应点复杂,除非供货商有很好的系统设计,可防止断气
、排除管路的污染或供应质量不稳定的状况,否则此种供应虽然方便,
却因工艺对气体质量的要求相当高,风险值也相对的较高。倘若源头供
应质量不良,导致厂房的工艺断气或污染,其损失之大,将不下于停电
所造成的巨额费用。相对的,以槽车或钢瓶的供应方式,因其出货前可
透过质量的检验,确保供气的质量,风险也就较低。
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特殊气体和大宗气体的供应方式
随着在光电产业中危险的特殊气体如硅甲烷的用量持续增加,
使用较大型之包装容器,并配合大流量自动供给系统,俨然成
为光电制造工厂气体输送技术主流。更多有关安全标准的研究
及测试,特别是储藏使用设施所需预留距离的估算,以及安全
操作法规如Uniform Fire Code等也随之急须被建立。气体的
使用在CVD制程中一直扮演着重要的角色,而气体的纯度则对
组件性能、产品良率有着决定性的影响,气体供应的安全性则
关乎人员的健康与工厂运作的安全。气体一般可简单的区分为
大宗气体(Bulk Gases),如N2、H2、O2、Ar等使用量较大的气
体,和特殊气体(Specialty Gases),如SiH4、AsH3、PH3…等
以钢瓶供应的气体。
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特殊气体和大宗气体的供应方式
特殊气体的供应方式截至目前为止,几乎皆用钢瓶的方式进行,一般常
用的为高压钢瓶,但依其填充的气体特性又可分为气态与液态钢瓶,一
般气体皆为气态钢瓶,其填充压力亦高,气体以气态储存于钢瓶内;低
蒸气压的气体则以液态储存于钢瓶内。另有一种吸附式的气体储存钢瓶
,即所谓的安全供应气源(SDS, Safe Delivery Source),可藉由介质如
沸石和活性碳对特定的气体如PH3、AsH3、BF3、SiF4等进行物理吸附,
以气体分子与吸附剂间的凡得瓦力将气体吸附于吸附剂的孔隙中,其优
点为供应压力低于一大气压,无泄漏之余。经实验结果,即使泄漏亦不
致发生爆炸或造成足以危害人体的毒气浓度,安全性佳,而且供应量可
为传统高压钢瓶的数倍至数十倍。然此种供气无法使用于目前所有的工
艺气体,亦少使用者使用此种系统进行中央集中式的供应方式。
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特殊气体和大宗气体的供应方式
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针对腐蚀性、毒性、燃烧性的气体,通常设计将钢瓶置于气瓶柜(Gas Cabinet)内,再透过管路将气体供应至现场附近的阀箱(VMB, Valve Manifold Box),而后再进入制程机台的使用点(POU, Point of Use),于进入机台腔体之前,会有独立的气体控制盘(GB, Gas Box)与制程控制模块联机,以质流控制器(MFC, Mass Flow Controller)进行流量之控制与进气的混合比例控制,通常此气体控制盘不属于厂务系统的设计范畴,而是归属制程机台设备的一部份。一般的惰性气体则是以开放式的气瓶架(Gas Rack)与阀盘(VMP, Valve Manifold Panel)进行供应。
特殊气体和大宗气体的供应方式
第二部分
安全预防
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特气供应系统是半导体厂中危险性最高的一环,只要有任何的疏失都可
能造成人员、厂房、设备的严重损失,特别是其中有些气体如SiH4的自
燃性,只要一泄漏就会与空气中的氧气起剧烈反应,开始燃烧;还有AsH3
的剧毒性,任何些微的泄漏都可能造成人员生命的危害,也就是因为这
些显而易见的危险,所以对于系统设计安全性的要求就特别高。通常严
重危害的事件,都是人们忽视其危险性或对其特性上的无知,甚或人员
操作维护上的疏忽所造成,反而越危险的物质,大家投注更多的关心与
防护,造成严重危害的情形较不容易发生。
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安全预防
事件发生流程:
首先假设人员在更换钢瓶后,未将接头完全锁紧即开始供气,此时第一阶
段保护的管路压力测试失效(目前的气瓶柜几乎皆有此项之设计),才可
能发生接下来的泄漏状况;当气体开始燃烧后,第二阶段的火焰侦测器
侦测
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