加速器第2章.pptVIP

离子源的定义：使中性原子或分子电离，并从中引出离子束流的装置。 离子源应用领域：原子物理、核物理、等离子体物理、等离子体化学等基础学科。七十年代以来，广泛用于离子注入、离子刻蚀等工业生产领域中。如质谱仪、加速器（包括中子发生器）、同位素分离器、离子推进器、受控热核聚变等都需要离子源。 离子源的研究基础：气体放电、等离子体物理、强流离子光学、原子物理、表面物理、计算数学等，还涉及许多尖端技术，如等离子体和束流的测量技术、大功率高压供电、大抽速真空系统、强磁场、强流电子枪等。七十余年的历史，处在半经验状态。它的发展还有赖于适用于离子源的许多特殊材料的研制。 ①离子掺杂与离子束改性 离子注入机 重复性、可靠性比扩散法好。离子注入掺杂在半导体大规模集成电路的生产中已成为重要环节，用离子注入法取代旧的扩散等工艺在有些器件中已成为必然趋势。 在常用金属的离子注入改性中，可以提高金属的硬度、抗腐蚀性能和抗疲劳强度，降低金属的磨损率。某些绝缘材料如陶器、玻璃、有机材料经离子束照射以后，性质发生重要的变化，获得新的用途。“离子注入冶金学”正在形成 ② 离子束分析 具有一定能量的离子与物质相互作用会使其发射电子、光子、X 射线等，还可能发生弹性散射、非弹性散射以及核反应，产生反弹离子、反冲核、γ射线、氢核、氚核、α 粒子等核反应产物，有背散射分析、X射线荧光分析、核反应分析和沟道效应，低能离子束还可作表面成分分析,如离子散射谱(ZSS)、次级离子质谱(SZMS)等。超灵敏质谱（加速器质谱）、带电粒子活化分析、离子激发光谱、离子激发俄歇电子谱等。 　③ 离子束加工 较低能量的离子束广泛用于工业加工，如离子减薄、离子抛光、离子束打孔、离子束刻蚀、离子束溅射金属膜等。 1.表面电离源、电子轰击型源：20年代，用于质谱仪。 2.气体放电型离子源：潘宁型源30年代，用于高压倍加速器和回旋加速器。 3.负离子源：40年代静电加速器的大量建造有促进了它研究和发展。 粒子源与加速器两者是相辅相成的。加速器的发展对粒子源不断提出新的要求，而粒子源技术的每个重大突破和发展又促进了加速器的发展与革新。 粒子源是产生带电粒子束的装置，粒子源的水平决定加速器的流强、发射度、粒子种类。 离子源的发展历史 4双等离子体源：50年代，强流高能加速器的迅速发展，导致了它的发展。 5使用常规潘宁型的等离子源获得多电荷态的离子：60年代，开始研究，以满足重离子物理研究的需要。 6溅射型负离子源、高电荷态的电子束源、电子回旋共振源：80年代，为串列静电加速器研制它，这进一步推动了重离子物理研究。 7极化离子源：根据核物理对极化离子束的要求而产生 8正电子源：电子对撞机的出现，提出的要求。 第二章 带电粒子源 第一节 带电粒子束的主要参数 第二节 离子源的工作原理与结构 第三节 离子源的主要类型 第五节 离子源的主要应用 第四节 电子和正电子源 第一节 带电粒子束的主要参数 一、 能散度 式中， 为粒子束流强随能量的分布曲线中，流强为最大值一半处的能量宽度，即半高宽FWHM， 为流强峰值处所对应的能量。 是束流中带电粒子能量分散的程度 1.相空间 　在束流光学中，人们常常把带电粒子束作为一个整体来进行研究，带电粒子的运动状态用相空间来表示。 　在三维笛卡尔坐标系中运动的带电粒子，给定了三个位置坐标：　　以及三个相应的动量分量 　　　　，那么由　　　， ， ， 组成的六维空间叫做相空间。某一带电粒子的运动状态就可以由这个六维坐标系中的一个点来表示。 二、发射度 　 　　当粒子在　　　处某个截面上的运动状态时，六维空间退化为　　　　　四维空间，例如，截面为矩形的束流，可分别在　　和　　　构成的两维相平面上进行研究，而对于截面为圆形的旋转对称束，只用　　　构成的两维相平面就可以描述粒子的运动状态。 　束流发散度的一种常见定义为： 用以表征带电粒子相空间分散的程度 实用单位是米.弧（m·rad） 2.刘维定理 　表述：带电粒子在保守力场和外磁场中运动时，相空间内粒子代表点的密度在运动过程中将保持不变。即：粒子群在相空间中的行为像不可压缩的流体。 由刘维定理得出的两个推论： 1，运动过程中粒子数守恒，粒子在相空间代表点的密度也不变，所以相空间内代表点所占相体积也不变。 2，当粒子束沿　　　三个方向的运动互不相关时，粒子束分别在　　　　　　　　　　三个相平面内的代表点所占据的相面积在传输过程中也都各自守恒不变。　 在束流传输过程中，只有当粒子能量不变时，发射相面积才是守恒的 。为了便于比较不同能量粒子束的发射度，引入“归一化”发射度。 归一化发射度 相对速度 相对能量 三、亮度 是束流在相空间的密度 亮