载流子在浓度差作用下的运动称扩散运动,所形成的电流称扩散电流。 载流子在电场作用下的运动称漂移运动,由此形成的电流称漂移电流。 4. 半导体中的两种电流: 5. PN 结形成的物理过程 阻止多子扩散 出现内建电场 开始因浓度差 产生空间电荷区 引起多子扩散 利于少子漂移 最终达动态平衡 注意: PN 结处于动态平衡时,扩散电流与漂移电流相抵消,通过 PN 结的电流为零。 PN结的物理空间称为耗尽层、或空间电荷区、或势垒区。 空间电荷区产生电场 —— 内电场 内电场阻止多子的扩散 —— 阻挡层。 空间电荷区正负离子之间电位差 VB0 —— 电位壁垒。 室温时 锗管 VB0 ? 0.2 ~ 0.3 V 硅管 VB0 ? 0.5 ~ 0.7 V 6. PN结的一些术语: 7. PN 结——伏安特性方程式 热电压 ? 26 mV(室温) 其中: IS 为反向饱和电流,其值与外加电压近似无关,但受温度影响很大。 正偏时: 反偏时: 8. PN 结——伏安特性曲线 ID(mA) V(V) VD(on) -IS Si Ge VD(on)= 0.7V IS=(10-9~10-16)A 硅PN结 VD(on)= 0.25V 锗PN结 IS=(10-6~10-8)A 温度每升高10℃,IS约增加一倍。 温度每升高1℃,VD(on)约减小2.5mV, 9. PN 结的电容特性
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