真空镀膜设备技术一般术语.docVIP

　　1真空镀膜vacuum coating：在处于真空下的基片上制取膜层的一种方法。 　　2基片substrate：膜层承受体。 　　3试验基片testing substrate：在镀膜设备开始、镀膜过程中或镀膜结束后用作测量和 或 试验的基片。 　　4镀膜材料coating material：用来制取膜层的原材料。 　　5蒸发材料evaporation material：在真空蒸发中用来蒸发的镀膜材料。 　　6溅射材料sputtering material：有真空溅射中用来溅射的镀膜材料。 　　7膜层材料 膜层材质 film material：组成膜层的材料。 　　8蒸发速率evaporation rate：在给定时间间隔内,蒸发出来的材料量,除以该时间间隔 　　9溅射速率sputtering rate：在给定时间间隔内,溅射出来的材料量,除以该时间间隔。 　　10沉积速率deposition rate：在给定时间间隔内,沉积在基片上的材料量,除以该时间间隔和基片表面积。 　　11镀膜角度coating angle：入射到基片上的粒子方向与被镀表面法线之间的夹角。 超高真空系统服务商 为客户创造价值 东莞爱家真空科技有限公司 网址 / 公司地址：广东省东莞市长安镇锦厦环村东路45号 全国服务热线：400-座机电话号码手机：1座机电话号码48电话：+86-769-座机电话号码 传