第五章：光刻重点分析.ppt

NSR2005 i9c 型NIKON光刻机光刻特征尺寸SEM照片2 步进扫描式光刻机 步进扫描式光刻机工作原理 步进扫描式光刻机的特点 1. 版上图形与片上图形4：1（即缩小倍率4：1） 掩膜版制造更容易和精确 2. 机器自动对准 3. 光刻精度高，特征尺寸：亚微米/深亚微米 4. 用较小的透镜尺寸获得较大的曝光场从而获得较大的芯片尺寸 5. 扫描过程调节聚焦，透镜缺陷、硅片平整度变化自动补偿 6. 原来由镜头成像质量保证的Y方向的线宽和套刻精度现在由机械扫描精度来实现 7. 造成像差小，图像畸变小 8. 制造成本低 步进扫描式光刻机的特点 环境条件对光刻的影响 1. 温度：掩膜版架、光学系统、承片台等 2. 湿度：胶粘附性、数值孔径、聚焦等 3. 振动：定位、对准、聚焦、曝光等 4. 大气压力：空气折射率、激光干涉计 5. 颗粒污染：图形缺陷 本章作业 1. 什么是光刻？（即回答光刻的概念） 2. 请写出光刻的8个基本步骤 3. 已知某台分步重复光刻机的紫外光源波长为248nm、光学系统的数值孔径为0.7、工艺因子为0.7，试计算该设备光刻的分辨率和焦深。 数值孔径（NA） 透镜能够把一些衍射光会聚到一点成像，把透镜收集衍射光的能力称为透镜的数值孔径。（ 通常UV光通过掩膜版上的特征尺寸小孔会发生衍射现象） NA＝（n）Sinθm