第五章晶态固体的表面和界面重点分析.ppt

20世纪初，人们假设晶界是一层非晶薄膜，后来很快被否定。由于分析手段的不断发展，发现晶界并不是杂乱无章的，而是具有一定的周期性，且晶界只涉及几个原子层的厚度。提出了多种不同的晶界模型。但这些工作都是针对静态晶界作出的，如果是移动晶界，它的结构和性质就更不清楚了。只介绍一些基本概念。 （3）各种运动界面上出现的溶质反常偏聚现象．这是溶质与运动界面相互作用引起的一种非平衡态溶质再分布现象，近年的研究主要集中在再结晶过程中运动晶界上溶质的反常偏聚，也涉及到相转变过程中移动相界上的偏聚现象，这类偏聚的机制尚不很清楚，可能与界面在运动过程中的结构及状态变化有关，已提出一些初步理论，但还很不完全，有待进一步发展． 5.3.4.2 微量硼在界面的非平衡偏聚 目前研究得最多也是最全面的元素 使用的方法也较合用,特殊 以硼为特例介绍非平衡晶界偏聚的特点及近代研究成果 径迹显微照相技术（PTA） 天然硼中含有19.8%原子百分数的10B同位素 10B同位素在热中子的辐照下，发生如下反应 可用固体径迹探测器探测这些产物粒子的径迹。 蚀坑密度ρ与硼含量之间有如下关系： 可以定量测量成分剖面图 静止晶界上的晶界非平衡偏聚 （1）冷却过程中的非平衡偏聚 Fe-40%Ni-B合金体系从1150℃以2℃/s冷却到640℃ 三段式发展：快→慢→快 冷却样品的晶界 0.25μm 晶界区