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第六章　薄膜的形成与生长 第六章　薄膜的形成与生长 薄膜的形成与生长 薄膜的形成与生长 薄膜的形成与生长 薄膜的形成与生长 薄膜的形成与生长 薄膜的形成与生长 薄膜的形成与生长 薄膜的形成与生长 薄膜的形成与生长 薄膜的形成与生长 薄膜的形成与生长 薄膜的形成与生长 薄膜的形成与生长 薄膜的形成与生长 薄膜的形成与生长 薄膜的形成与生长 薄膜的形成与生长 薄膜的形成与生长 薄膜的形成与生长 薄膜的形成与生长 薄膜的形成与生长 薄膜的形成与生长 薄膜的形成与生长 薄膜的形成与生长 薄膜的形成与生长 薄膜的形成与生长 薄膜的形成与生长 薄膜的形成与生长 薄膜的形成与生长 薄膜的形成与生长 薄膜的形成与生长 薄膜的形成与生长 薄膜的形成与生长 薄膜的形成与生长 薄膜的形成与生长 薄膜的形成与生长 薄膜的形成与生长 薄膜的形成与生长 薄膜的形成与生长 薄膜的形成与生长 薄膜的形成与生长 薄膜的形成与生长 第四节　溅射薄膜的形成过程 溅射薄膜的形成过程 溅射薄膜的形成过程 溅射薄膜的形成过程 溅射薄膜的形成过程 溅射薄膜的形成过程 薄膜的形成与生长 薄膜的形成与生长 薄膜的形成与生长 薄膜的形成与生长 原子聚集理论 当临界核是由少数原子(如2~10几个原子)组成时，建立在热 力学基础之上的宏观核形成理论是不适用的 原子聚集理论研究核形成时，将核看作一个大分子聚集体， 用聚集体原子间的结合能或聚集体与基体表面间的结合能代 替热力学自由能 原子聚集理论的基本思路是考虑原子到达基片以后，在基片 上徙动；相互碰撞而结合为2原子、3原子┄n原子的原子 团，从给出各个原子数的原子团的方程组出发讨论核的形成 过程 两种理论所依据的基本概念是相同的，不同之处两者使用的 能量不同，所用的模型不同 热力学界面能理论适合于大尺寸临界核，原子聚集理论 比 较适宜于小尺寸临界核 第三节　薄膜形成过程与生长模式 薄膜的形成过程是指形成稳定核之后的过程。薄膜成长模式 是指薄膜形成的宏观模式 岛状生长模式： 对于很多薄膜与衬底的组合来说，只要沉积温度足够高，沉积 原子具有一定的扩散能力，薄膜的生长就采取岛状生长模式。 被沉积的物质与衬底的浸润性差，被沉积物质更倾向于自己相 互键合起来形成三维的岛 层状生长模式： 层状与岛状生长模式： 当被沉积物质与衬底之间的浸润性很好时，被沉积的原子更 倾向于与衬底原子键合，薄膜从形核阶段开始即采取二维扩 展的模式，薄膜与衬底表面铺开。薄膜在随后的沉积过程 中，一直维持这种层状的生长模式 最开始的一两个原子层的层状生长之后，生长模式从层状模式 转化为岛状模式，这种转变机制比较复杂 在稳定核形成以后，岛状薄膜的形成过程 1. 岛状阶段 在核进一步长大变成小岛过程中，平行于基板表面方向的生 长速度大于垂直方向的生长速度 2. 联并阶段 随着岛不断长大，岛间距离逐渐缩小，最后相邻小岛可互相联 结合并为一个大岛 理论分析证明：当核与吸附原子间的结合能大于吸附原子与 基体的吸附能时，就可形成三维的小岛 小岛联并长大后，基体表面上占据面积减小，表面能降低，基 体表面上空出的地方可再次成核 岛状薄膜的形成过程可分为四个阶段 3. 沟道阶段 岛联并之后，新岛进一步生长，进一步联并。当岛的分布达 到临界状态时，互相聚结形成一个网状结构。这种结构中不 规则的分布着5～20 nm的沟渠。随着沉积的继续进行，在沟 渠中会发生二次或三次成核。当核长大到与沟渠边缘接触时 就联并到网状结构的薄膜上 4. 连续膜阶段 在沟渠和孔洞消除之后，再入射到基体表面上的气相原子便 直接吸附在薄膜上，通过吸附作用而形成不同结构的薄膜 如何判断薄膜形成与生长的三种模式 1. 沉积粒子的产生过程 第四节　溅射镀膜的形成过程 用溅射法制备薄膜时，薄膜的形成特征与真空蒸发法制备薄 膜时有很大不同 思考：不同的原因在哪？ (1) 产生粒子的能量 (2) 粒子是否按余弦定律分布 (3) 产生粒子的情况 (4) 组分是否容易偏离 1. 沉积粒子的产生过程 真空蒸发是一种热过程，通过这种过程产生的沉积粒子具有较 低的能量，其能量约为0.1～0.2eV 溅射是以动量传递的离子轰击为基础的动力学过程，从靶材中 溅射出来的粒子具有较高的能量，比蒸发粒子的能量高1～2个 数量级 对于点状或小面积蒸发源，蒸发气相原子飞向基体表面时是按余 弦定律定向分布的 对于阴极溅射，在入射的Ar离子能量较大，靶由多晶材料组成 时，可将靶看作点状源，溅射出来的粒子飞行基体表面时才按余 弦定律分布的。对于单晶靶材，将出现择优溅射现象 从蒸发源蒸发出的气相粒子几乎都是不带电的中性粒子，或 者很少的带电粒子(由热电子发射造成) 溅射出的粒子除了从靶材中溅射出中性原子或原子团之外， 还可溅射出靶材的正离子、负离子、二