玻璃工艺第18章玻璃制品的加工.pptVIP

第十八章 玻璃制品的加工 成形后的玻璃制品，除了极少（如瓶罐）能直接符合使用要求外，大多数还需加工，以得到符合使用要求的制品。 18.1 玻璃制品的冷加工 冷加工的定义： 在常温下，通过机械的方法，来改变玻璃制品的外形和表面状态的过程 冷加工的基本方法： 研磨抛光 切割 喷砂、钻孔和切削 ３．溶胶—凝胶法 　　可将许多金属氧化物制成玻璃涂层，即可得到多种颜色的镀膜玻璃．工艺简单，稳定性也好 　　不足之处是产品光透射比太高。 ４．真空蒸发镀膜法 　　在真空条件下（＜136.8×10-6Pa)，将待蒸发的金属加热至蒸发温度，使之挥发沉积到玻璃表面． 镀铬、铝膜的反光镜多用此法生产． 　　该法生产的玻璃的品种和质量与磁控溅射镀膜玻璃相比均存在一定差距，已逐步被真空溅射法取代。 ５．溅射镀膜 　　在真空室中，利用几十电子伏或更高动能的荷能粒子轰击靶材表面，使其原子获得足够的能量而溅出进入气相，然后在工件表面沉积的过程。 　　具体的溅射工艺很多，如二极溅射、三极、四极溅射、磁控溅射、对向靶溅射、离子束溅射、射频溅射、吸气溅射、反应溅射等等。 　　与真空蒸镀法相比，阴极溅射有如下特点： *可以镀多层复杂膜系； *可镀熔点高，蒸发困难的金属膜（如铂）； *阴极溅射时溅射下来的材料原子具有10～35ev的动能，比蒸镀时原子动能（0.1～1.0ev）大得多，因此溅射镀膜的附着力也比蒸镀膜大，膜层的耐腐蚀和耐磨性能较好 ； *可以在较大面积上得到均一的薄膜； 　　　　　目前生产上使用最多。 原理：当接通高压电源时，阴极发出的电子在电场的作用下会向阳极运动,速度在电场中不断增加，和气体原子相撞会发生辉光放电,引起气体原子电离,从而产生大量的离子与低速电子。离子在电场作用下加速撞击靶,就会发生溅射产生待镀材料原子沉积于基体上 ? 　　靶是一平板，由欲沉积的材料组成，一般将它与电源的负极相连。故此法又常称为阴极溅射。 　　真空室中需要充入气体作为媒介，使辉光放电得以启动和维持，最常用的气体是氩，若其中掺入氧气,氮气,硫化氢,甲烷等,与靶材溅射原子或分子发生化学反应,则可生成氧化物,氮化物,硫化物,碳化物薄膜． 溅射系统简图 　　６．离子镀膜法： 　　是一种新型的真空离子镀膜技术，它把辉光放电和磁控溅射两种技术有机地结合在一起，来获得性能更为优异的硬质膜和装饰膜。可蒸镀金属材料、合金材料，也可进行反应离子镀，如： TiN、TiC、（TiAl）N、ZrN、等超硬膜； Au、Ag、Cu高低温耐蚀膜； 不锈钢、黄铜、镍铬、 （TiAl）N等装饰保护膜等。 基本原理： 　　在真空室中利用辉光放电所产生的能量将靶材（钛等金属或合金）直接蒸发（或溅射）离化生成金属离子，并通过电场进行加速与反应气体生成金属化合物，最后沉积在工件表面．沉积速度可达1~50μm/min,而阴极溅射只有0.01~1μm/min． 　　　　　表面涂层的种类： 　　1、表面金属涂层； 　　2、表面导电膜； 　　3、表面憎水涂层； 　　4、表面着色涂层； 　　 5、表面光学薄膜 　　 　　玻璃基片必须新鲜,最好不超过一个月,新鲜的玻璃表面活性大,物理和化学吸附能力强,膜和玻璃结合的牢固. （二）镀膜类玻璃 　　　　　１．热反射玻璃 　　一般是在玻璃表面镀一层或多层诸如铬、钛或不锈钢等金属或其化合物组成的薄膜，使产品呈丰富的色彩，对于可见光有适当的透射率，对红外线有较高的反射率，对紫外线有较高吸收率，因此，也称为阳光控制玻璃． 　　可见光透过率为２０～６０％ 　　太阳辐射热全透过率为２０～６７％（遮阳系数Sc=0.2~0.67） 　　可见光反射率为５～４５％（会造成光污染） 主要用于建筑玻璃幕墙 　　镀膜玻璃中应用最多的是热反射玻璃和低辐射玻璃。基本上采用真空磁控溅射法和化学气相沉积法两种生产方法。 　　　　　　２．低辐射玻璃（Low-E） 　　低辐射玻璃也是一种镀膜玻璃, 膜材一般为金、银、铜、ZnO、TiO2等． 　　大多采用三层膜系，第一层为氧化介质膜，第二层为低辐射膜，第三层为保护膜． 　　与阳光控制镀膜玻璃不同的是： 　　*它对可见光的反射率很低(10%, 普通玻璃为7%)； 　　*透光度很好达70~90%； 　　*对红外线特别是远红外线的反射率很高(80%).冬天室内的物体发射的红外线(远红外线是由物体吸收太阳光、热能后辐射出来的）碰到低辐射玻璃时,有80%左右反射回室内,保温的作用是普通单层玻璃的３倍． 　　在寒冷地区.一般不用单片,因单片内侧会结露,这层水膜会妨碍对红外线的反射, 一般