高纯材料制备技术6重金属2013.ppt

C 电解电解槽用聚氯乙烯塑料板焊接，有效容积为54L、长520mm、宽330mm、高330mm。阳极为特1号锡，在石墨坩埚内熔化，浇铸于铁模内，有效面积为265mm×240mm。阳极使用前，在稀HCl水溶液中浸泡片刻，洗净，外套涤纶布袋，防止剥落下来的阳极泥污染电解液。阴极用上次电解阴极锡制成母片，如是初次生产可用同样成分的特1号锡制成母片，有效面积为275mm×250mm。浸于95℃石蜡内约10min，放人电烘箱内，保持85℃烘烤30min，取出自然冷却。每槽装入阳极5块，阴极6块。在阴极电流密度为58～100A／m2、槽电压为0.04～0.06V、常温条件下进行电解。阴极周期为7天，有时长达9天。出槽后补加蒸馏水、浓硫酸、明胶、β-萘酚，以维持电解液成分在规定的范围内。电解后Cl-无多大变化，可以不补充。电解液经过滤除去悬浮物后循环使用。D 阴极锡的处理用竹片将阴极锡从母片板上剥下，浸泡于5％HCl溶液里，然后用蒸馏水冲洗洁净，这样可减少电解液中Pb2+带到产品中，洗净的阴极锡装在搪瓷盆内进行电炉熔化。当盆内的阴极锡接近熔化时，以NH4Cl(分析纯)覆盖，待NH4Cl全部挥发便可扒渣，浇铸于不锈钢模内，及时用竹片将表面浮渣刮干净，经冷却脱模，得到高纯锡锭，成分见表4-25。 上述生产高纯锡的方法同其他方法比较，有以下特点：流程短、工艺简单、材料消耗小、产品质量稳定，特1号锡经一次电解取得的阴极锡绝大部分达到高纯锡标准。该过程的工艺特点为：(1)铅的硫酸盐在电解液中溶解度很小，而成沉淀；(2)用最低的槽电压，以便于铅锡分离；(3)采用较低的电流密度，以防阴极电压升高，引起杂质溶解。这个方法的缺点是除铅效果还不够，产高纯锡含铅大于2×10 14％，因此适于对铅要求不很严格的地方采用。 电解-真空挥发法此法由电解精炼和真空挥发除铅两个工序所组成，用1号锡或特l号锡作原料，经过电解取得阴极锡(含Sn99.99％)，要求Fe、Ni、Cu、Co、Ag、In、Al、Ga、Mn、Au、Tj、Tl等12个元素均不大于0.5×10-4％，各种杂质总和小于5×10-4％，然后将这种产品进行真空挥发，除去其中的铅和其他在真空挥发中仍能除去的杂质，如As和Bi等，达到合格的产品。锡和杂质的分离系数与温度的关系如图4-26所示。真空挥发除铅是基于铅比锡的沸点低、蒸气压大的性质，铅在真空挥发中可以达到高纯锡的要求。根据计算得到的锡和杂质的分离系数(p杂质／p锡)与温度的关系可知，在低于1000℃时，分离系数剧烈增大，高于1200℃时则减小，由此可以找到真空加热的合理温度为1000～1200℃。降低压力会增加液相和气相组成之间的差别，并降低合金的沸点，因此采用真空挥发是很适合的。我国工厂所用的真空挥发炉为固定式钟罩形炉，钟罩可以揭开，操作时盖紧。炉内用石墨加热器加热，用钼片作保温层，待处理的锡盛于石墨坩埚内，靠电磁作用搅拌。用机械泵和扩散泵组成抽空设备。真空挥发设备如图4-27所示。这种挥发炉的性能和规格见表4-26。 图4-26 锡和杂质的分离系数与温度的关系 图4-27 真空挥发设备示意图 图4-28 区域熔炼提纯锡设备图 1-隔热罩支架；2-可动平板；3-传动设备；4-框架；5-石棉水泥隔热罩；6-SiC棒；7-石墨舟；8-放锡口 THANK YOU! * Enter speaker notes here. * 钴化合物 萃取或离子交换 高纯钴盐 不溶阳极电积 高纯电积钴 电解精炼 沉钴氢还原 高纯钴粉 真空脱气 真空精炼或区熔 高纯电积钴 图4-17 推荐的高纯钴制备工艺流程 萃取色层法 通过分析硫酸钴溶液中主要杂质离子的性质和萃取色层法特点，与化学沉淀法、溶剂萃取法、液膜法、离子交换法、溶剂萃取法等分离技术进行了对比，选择用化学沉淀法和萃取色层法解决钴溶液中的Fe3+、Cu2+、Zn2+、Mn2+、Ca2+等杂质分离的技术难题。这个方法包括料液的处理、色层柱的前处理、上柱和色层柱的淋洗和电解沉积4个步骤：(1)钴溶液的处理。硫化物沉淀法除杂：在钴溶液中加入料液中钴物质的量0.1％的硫化钠，搅拌10min，然后加热溶液到600℃，静置30min后减压过滤除去溶液中的黑色沉淀。水解沉淀法除杂：用0.1mol/L的氢氧化钠溶液调节钴溶液pH值约为4.6～4.8，搅拌10min，然后采用减压过滤除去溶液中的褐色沉淀。(2)色层柱的前处理。色层柱中杂质离子的去除：以6mol／L的HCl溶液淋洗色层柱，以5％的KSCN溶液检测淋出液，直至淋出液中无Fe3+为止，然后以去离子水淋洗色层柱，直至淋出液pH值为5.0~ 5.5时停止淋洗。 (3)上柱和色层柱的淋洗。料液上柱：以处理过的钴溶液淋洗色层柱，回收的钴溶液用氢氧化钠溶液调节pH值到