石墨烯烯胺复合.docVIP

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河北工业大学本科毕业设计(论文)前期报告 毕业设计(论文)题目:氧化石墨烯/尼龙复合材料的制备及表征 专业: 高分子材料与工程 报告提交日期: 一、实验内容 本课题中,首先采用表面改性剂对氧化石墨烯(GO)进行表面改性,目的是改善其在尼龙中的分散性,然后通过原位聚合法制备氧化石墨烯/MC尼龙复合材料,研究氧化石墨烯在MC尼龙中的分散状态及其复合材料的性能。 1、氧化石墨烯的制备 片层氧化石墨烯的示意图 1.1 实验原料:325目石墨 浓硫酸 硝酸钠(分子量为84.99) 高锰酸钾(分子量为158.04) 蒸馏水 双氧水 1.2 实验装置:FA2104N型分析天平;JSB-211型加热磁力搅拌器; JR-2型集热式磁力加热搅拌器;高速离心机;DZF-6030A型真空干燥箱 ;SHZ-D循环水式真空泵。 1.3 Hummers法制备:采用浓硫酸加硝酸盐体系,以高锰酸盐为氧化剂,反应过程分为低温(-5℃以下)中温(35℃左右)和高温(80℃左右)三个阶段。傅玲等人[1]对该方法氧化过程的机理进行了初步分析。 a低温阶段:将石墨加入到冷却至0℃以下的浓硫酸中,由于低温下硫酸的氧化性不足以提供插层反应的动力,混合液的黑色基本不变;当加入高锰酸钾以后,石墨片层边缘处的C首先被氧化,并且硫酸氢根离子和极性硫酸分子通过静电引力吸附到石墨片层的边缘,随着高锰酸钾含量的增加,石墨的碳六角网络平面逐渐变成带有正电荷的平面大分子,因此硫酸氢根离子和极性的硫酸分子也逐渐插入到石墨层间,最终形成了一阶硫酸一石墨层间化合物,低温反应过程主要是硫酸分子在石墨层间的插层反应。 b中温阶段:主要是高锰酸钾的强氧化作用使一阶硫酸一石墨层间化合物进一步发生深度氧化反应,O与C以共价键相结合,碳六元环也被部分破坏,此时混合液呈现褐色。 c高温阶段:在混合液中加入蒸馏水,由于混合液中过量的浓硫酸与水作用放出大量的热使反应物的温度迅速升高,通过控制蒸馏水的加入速度使温度控制在80℃以下,深度氧化的硫酸一石墨层间化合物发生水解反应,大量的水分子进入其层间,将硫酸分子置换出来,水中的OH一则与HSO4一发生离子交换作用并将其置换出,再与石墨层面上的碳原子相结合;此时,石墨片层间距扩大,有明显的体积膨胀现象。最后经抽滤水洗和离心至中性并真空干燥,形成氧化石墨产物,颜色由金黄色逐渐变成黑色。 文献综述 石墨烯的制备方法 2.1微机械剥离法 2004年, 石墨烯的发现者Geim等[ 2]用一种极为简单的方法---- 微机械剥离法成功地制备并观测到单层石墨烯。他们首先用光刻胶将高定向热解石墨转移到玻璃衬底上, 然后用透明胶带进行反复粘贴将高定向热解石墨剥离, 随后将粘有石墨烯片的玻璃衬底放入丙酮溶液中超声振荡。再将单晶硅片放入丙酮溶剂中, 单层石墨烯片会由于范德华力或毛细管作用吸附在单晶硅片上,从而成功地制备了二维的石墨单层。最 近,Kn ieke[ 3]等利用湿法研磨法在室温下研磨普通石墨粉, 成功的对石墨的片层结构进行了剥离, 制备了单层和多层的石墨烯片。为了防止剥离出来的石墨烯片的团聚, 研磨过程中加入阴离子表面活性剂十二烷基硫酸钠以稳定石墨烯片。该法工艺简单,成本低廉,但费时费力,重复性差,难以大规模制备。 2.2化学还原石墨烯氧化物法 氧化石墨一般是通过最常用的 Hummers法进行制备[ 4]。该法以石墨粉为原料, 经过强氧化剂浓硫酸和高锰酸钾的氧化,石墨的层间被插入了羟基、环氧及羧基等含氧基团, 拉大了石墨的层间距, 从而得到了石墨氧化物。然后通过超声作用, 将石墨氧化物剥离得到单层的石墨烯氧化物( GO )。对 GO进行还原,可以将GO平面结构上的含氧基团去除,可使大键共轭体系得到恢复,即可制得高导电性的石墨烯。但该方法简单,成本低, 可以大量的制备石墨烯。 2.3溶剂热法 溶剂热法已广泛用于纳米材料的合成中。它可以在密闭反应器中产生高压并可减少挥发性产品的污染, 因此非常适合于亚稳态相的制备。Nethravathi等[ 5]通过溶剂热方法在较低的温度下实现了对石墨烯氧化物的还原。他们尝试了水、乙醇、正丁醇及乙烯醇等不同的溶剂对溶剂热反应的影响。Zhou等[ 6]发现在碱性条件下通过简单的水热合成法, 可以得到稳定的石墨烯水分散液。他们认为该还原反应类似于乙醇的氢离子催化的脱氢反应。在这里, 水为羟基提供了质子化必须的氢离子, 从而导致了在石墨烯氧化物片表面或边缘的分子内脱氢和分子外脱氢反应的发生。 2.4电弧放电法 电弧放电法作为一种有效的方法被广泛的用于制备各种形态的碳纳米材料, 比如在氦气中制备碳纳米管以及碳纳米角 [ 7]。Subrahm anyam 等[ 8]以氢气与氦气的混合气作为媒介实现了石墨烯的制

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