RIE技术最新研究进展_2015.10.26.pptxVIP

RIE技术最新研究进展海润研发中心刘仁中CPVC15优秀论文1. 黑硅电池定义及实现形式黑硅电池，指电池片外观呈黑色或近于黑色的电池。具有代表性的实现形式：RIE黑硅：IPS、Jusung、比太科技等设备厂商支持RIE黑硅电池产业化。金属诱导湿法黑硅：业内已完成0.4%效率提升的Ag诱导湿法黑硅产业化。 图1. IPS RIE设备简图图2. Jusung RIE设备简图图3. 比太RIE设备简图1. 黑硅电池定义及实现形式气相化学腐蚀黑硅：南昌大学周浪院长团队开发成功并具备产业化条件。电化学腐蚀“多孔硅”黑硅：把硅片作为阳极在HF溶液中通入电流进行腐蚀获得多孔硅。图5. 气相腐蚀SEM绒面图图6. 电化学腐蚀原理图图4. 气相腐蚀设备结构简图2. RIE原理简介RIE反应离子刻蚀（RIE, Reactive Ion Etching）是一种应用于多晶电池的干法制绒技术，主要原理：化学蚀刻：射频发生器将反应气体离化，反应气体中的氟离子与硅片发生化学反应完成化学蚀刻。物理轰击：质量较大的正离子，被平板电场的电压有效加速，垂直轰击放置于阴极表面的硅片，实现对硅片表面的物理轰击。Anode图7. RIE系统简图3. RIE技术光伏产业化笔者认为，RIE技术光伏产业化主要经历以下两个阶段：第一阶段（2004年-2013年）：以日本京瓷（ Kyocera）“d.Blue”电池为代表的第一代RI