用于制备致密陶瓷的掺杂10 mol%活际性稀土氧化物(一稀土为钆和钐)ceo2纳米粉体的合成,表征和低温烧结.docVIP

用于制备致密陶瓷的掺杂10 mol%活际性稀土氧化物(一稀土为钆和钐)ceo2纳米粉体的合成,表征和低温烧结.doc

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材料科学与工程B 121 (2005) 54–59致密陶瓷掺杂10 mol%稀土氧化物(稀土钆和钐)CeO纳米粉体合成,表征和低温烧结Ji-Guang Li a,?, ,Yarong Wang b, Takayasu Ikegami a, Toshiyuki Mori b, Takamasa Ishigaki a a Advanced Materials Laboratory, National Institute for Materials Science, Namiki 1-1, Tsukuba, Ibaraki 305-0044, Japan b Eco-materials Research Center, National Institute for Materials Science, Namiki 1-1, Tsukuba, Ibaraki 305-0044, Japan Received 14 July 2004; received in revised form 28 February 2005; accepted 2 March 2005 摘要:采用硝酸盐作为出发盐和六次甲基四胺为沉淀剂均匀沉淀法10mol%稀土氧化物(稀土元素为钐钆氧化铈纳米颗粒元素分析,X射线衍射(XRD),差热分析/热重(DTA/TG),场发射扫描电镜(FE - SEM)及布鲁瑙尔-埃米特-特勒仪(BET)热膨胀和等温烧结粉末烧结预先确定化学计量轻水合结晶固熔体形成上述表征技术此合成工艺Sm3+约为22 at.%,Gd3+约为24.4 at.% 。这种烧结粉体的最退火温度400℃,在这个温度点上,在没有显著的微晶增长硬团聚体形成1000℃低温常压烧结4h超细微观结构(117–134 nm)的完全致密陶瓷(99%)。 ? 2005 Elsevier B.V. 全文收录。 关键字:陶瓷;CeO2掺杂;湿化学处理;低温致密化1.引言 氧化铈保持其萤石晶体结构掺杂稀土()氧化铈固熔体稳定的氧化锆普遍表现出更好的电气电导率,在固体氧化物燃料电池(SOFC应用巨大潜力掺杂氧化铈导电很大程度上取决于钐掺杂(SDC)和钆掺杂(GDC)定掺杂水平由于其技术的重要性掺已多年调查目标需要高温(1300℃)长时间加热和反复间歇传统固相反应方法通过常用的湿化学草酸盐共沉淀溶胶凝胶水热处理处理通过固相反应纳米晶体性质的有效利用P.-L. Chen和I.-W. Chen[8]研究制定出了一用于纯CeO合成均匀沉淀程硝酸铈六次甲基四胺((NH)6 N4 , HMT, 0.5 M)(0.0375)混合溶液1250℃低温下致密的活性氧化铈纳米粉体此合成工艺一个突出的特点氧化铈结晶析出避免了结晶煅烧步骤硬团聚体可能会形成出现然而这种方法没有被推广到合成掺氧化铈Rojas and Ocana[9]报道了用这种技术实现高度统一的镨()/氧化铈固纳米粒子Markmann 等人[10]修改此湿热均匀方法硝酸铈,硝酸钇,和碱混合溶液在室温下反应获得掺杂钇的氧化铈纳米粉体胶体处理技术烧结坯体他们制造掺杂的高氧化铈纳米陶瓷晶粒尺寸为30nm不过在水通过羟基水钇可能是作为一个独立的无定形YT.S. Zhang[11]运用湿热掺杂20 at.% Gd钆氧化铈纳米粉体在700-800的最佳温度预烧粉体几乎完全致密陶瓷们运用均匀沉淀法合成20 at.% 的 Sm3+(三价钐Gd3+(三价钆纳米氧化铈钆钐两重要的固体电解质材料高活性1000℃的低温常压烧结可完全致密此合成工艺Sm3+(三价钐22 at.%和Gd3+(三价钆4.4 at.%。低温固体电解质的制备具有重要的现实昂贵加热元件的常规烧结炉更重要的是,与其他固体氧化物燃料电池的电解质成分共烧在的我们粉末合成,表征及烧结2. 实验过程粉末合成与表征稀土硝酸盐日本东京关东化学公司RE(NO3)3 ·5H2O, RE =铈,钆钐99.9%)和乌洛托品日本大阪光化工实业有限公司超高纯度纳米粒子2000毫升含有HMT稀土离子Ce3++ RE3+ = 0.015 M)的混合溶液(0.5 M)100 ± 1℃,加热1h;然后,在这个温下加热2h以达到充分蒸发。这里用较高的反应温度和较低的离子浓度固熔体形成降低聚程度产生的悬浮通过0.2米膜过滤重复散和过滤除去多余用无水乙醇清洗析出物120℃烘干24h以上。通过以上步骤制得了纯的氧化铈样品50 mL/min),选定特定的温度,在管式炉研究退火对粉末性能的影响稀土铈摩尔比粉体的组成X射线荧光法东京西门子,SRS3000通过差热分析/TG,Thermal Plus TG8120 Riguku,东京X射线衍射X射线衍射 荷兰飞利浦研究实验室,飞

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