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水热法合成硅纳米线 周全 * 水热法[1] 概念：使用特殊设计的装置,人为地创造一个高温高压环境,使通常难溶或不溶的物质溶解或反应,生成该物质的溶解产物,并在达到一定的过饱和度后进行结晶和生长。当然,这种方法也可用于易溶的原料来合成所需产品。 水热法具有如下特点：(1)采用中温液相控制,能耗相对较低,适用性广,既可制备超微粒子和尺寸较大的单晶,还可制备无机陶瓷薄膜;(2)原料相对廉价易得,反应在液相快速对流中进行,产率高、物相均匀、纯度高、结晶良好,形状、大小可控;(3)可通过调节反应温度、压力、溶液成分和pH等因素来达到有效地控制反应和晶体生长的的;(4)反应在密闭的容器中进行,可控制反应气氛而形成合适的氧化还原反应条件,获得某些特殊的物相,尤其有利于有毒体系中的合成,从而尽可能地减少了环境污染。[1]周菊红,王涛,陈友存,张元广. 水热法合成一维纳米材料的研究进展[J]. 化学通报,2008,07:510-517. 制备[2] 将1.25g SiO粉末和35ml 去离子水混合，均匀搅拌后放入容积为200ml的高压反应釜内，加盖密封，调节反应釜的磁力搅拌器的转速为300r/min; 用温控仪控制釜体内的升温速率，并于温度为450℃时保温 6h，压力增长到9.2MPa。 随后反应釜自然冷却至室温，打开釜盖，收集具有大量微小悬浮物质的上层黄色溶液、釜底的红褐色沉淀和釜盖的絮