薄膜物理与技术-4薄膜制备中的相关技术精选.ppt

4.4 薄膜制备的环境 4.4.1 大气中的尘埃粒子 4 薄膜制备中的相关技术 普通城市，较洁净状态，0.5 um以上的尘埃高达177000个/L。 4 薄膜制备中的相关技术 4.4 薄膜制备的环境 4.4.1 超净工作间标准与级别 以单位体积内存在一定直径以上的颗粒数为基础定义超净间级别。 按联邦标准209E，每立方英尺中0.5 um以上粒子数100个、10000个、100000个分别对应于FS100，FS10000，FS100000，即100级、10000级、100000级。 近年来，规定按每立方米中0.1 um以上的粒子数，分别对应为新1级（10个），新2级（100个），新3级（1000个）。新4级（10000个）等。 半导体、集成电路：新5级~新6级洁净室基片清洗；优于新3级环境镀膜。 思考题： 薄膜厚度的测量与监控的常用方法有哪些，工作原理？ 试比较物理干法刻蚀和化学干法刻蚀的机制。 化学法： i：DI-H2O:H2O2:(NH3+H2O)=6:1:1 除去有机沾污 ii：DI-H2O:HF=90:10 除去SiO2 SiO2+4HF=SiF4+2H2O iii：DI-H2O:H2O2:HCl =5:1:1 除去金属离子