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非晶硅薄膜制备方法
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物理气相沉积(physical vapor deposition, PVD)
化学气相沉积(chemical vapor deposition, CVD)
非晶硅薄膜制备方法
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化学气相沉积
化学气相沉积就是在反应室中将含有硅的气体分解,然后分解出来的硅原子或含硅的基团沉积在衬底上。
常用气体:硅烷SiH4,乙硅烷 Si2H6
n型掺杂材料:磷烷PH3
p型掺杂材料:乙硼烷B2H6,三甲基硼烷 B(CH3)3,或三氟化硼BF3
稀释气体:氢气H2,或惰性气体He,Ar
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化学气相沉积
常用化学气相沉积技术:
等离子体辉光放电(glow discharge)
直流(DC)等离子体辉光放电
射频(RF)等离子体辉光放电
超高频(VHF)等离子体辉光放电
微波等离子体辉光放电
光诱导化学气相沉积法(photo-CVD)
热丝催化化学气相沉积法(hot wire CVD)
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何为等离子体?
普通气体温度升高时,气体粒子的热运动加剧,使粒子之间发生强烈碰撞,大量原子或分子中的电子被撞掉,当温度高达百万K到1亿K,所有气体原子全部电离.电离出的自由电子总的负电量与正离子总的正电量相等.这种高度电离的、宏观上呈中性的气体叫等离子体.
在自然界里,炽热烁烁的火焰、光辉夺目的闪电、以及绚烂壮丽的极光等都是等离子体作用的结果。
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等离子体特点
等离子体和普通气体性质不同,普通气体由分子构成,分子之间相互作用力是短程力,仅当分子碰撞时,分子之间的相互作用力才有明显效果,理论上用分子运动论描述.
在等离子体中,带电粒子之间的库仑力是长程力,库仑力的作用效果远远超过带电粒子可能发生的局部短程碰撞效果,等离子体中的带电粒子运动时,能引起正电荷或负电荷局部集中,产生电场;电荷定向运动引起电流,产生磁场.电场和磁场要影响其他带电粒子的运动,并伴随着极强的热辐射和热传导;等离子体能被磁场约束作回旋运动等.等离子体的这些特性使它区别于普通气体被称为物质的第四态.
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辉光放电的基本原理
辉光放电系统的I-V曲线图
在真空系统中通入稀薄空气,两电极之间将产生放电电流,产生辉光放电现象。
可实现辉光放电功能的是正常放电和异常辉光放电阶段。
实际工艺中,选择异常放电阶段。
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辉光放电的基本原理
辉光放电系统的辉光区示意图
正离子柱区(阳极光柱区),在此区域,电子和正离子基本满足电中性条件,处于等离子状态。如果适当调整电极间距,可以使等离子体区域(正离子柱区)在电极占主要部分,故等离子体辉光放电化学气相沉积又称等离子体增强化学气相沉积(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)
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