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第二部分 电子显微
磁透镜的像差是怎样产生的? 如何来消除和减少像差?
答:1像差分为两类:几何像差和色差。
?几何像差是因为透镜磁场几何形状上的缺陷而造成的。几何主要指球差和像散。
?色差是由于电子波的波长或能量发生一定幅度的改变而造成的。
2第一,采取稳定加速电压的方法可有效地减小色差。第二,单一能量或波长的电子束照射样品物质时,将与样品原子的核外电子发生非弹性散射。一般来说,样品越厚,电子能量损失或波长变化幅度越大,色差散焦斑越大,透镜像分辩率越差。所以应尽可能减小样品厚度,以利于提高透镜像的分辩率。
(球差:球差即球面像差,是由电磁透镜磁场中,近轴区域对电子束的折射能力与远轴区域不同而产生的。球差除了影响分辨本领外,还会引起图像畸变。像散:是由透镜磁场非旋转对称引起的一种像差。像散散焦斑与焦距差ΔfA成正比,透镜磁场非旋转对称性越明显,焦距差越大,散焦斑越大,透镜的分辨率越差。像散可以用机械、静电或电磁式消像散器适当地加以补偿矫正。)
电子束和固体样品作用时会产生哪些信号?它们各具有什么特点?
答:样品在电子束的轰击下会产生:背散射电子,二次电子,吸收电子,透射电子,特征X射线,俄歇电子。
1、背散射电子是指被固体样品中的原子核或核外电子反弹回来的一部分入射电子。用Ib示背散射电子流。 特点:
弹性背散射电子远比非弹性背散射电子所占的份额多 ;
能量高,例如弹性背散射,能量达数千至数万ev ;
背散射电子束来自样品表面几百nm深度范围 ;
其产额随原子序数增大而增多 ;
用作形貌分析、成分分析(原子序数衬度)以及结构分析(通道花样)
2、二次电子在入射电子作用下被轰击出来并离开样品表面的样品原子的核外电子。用IS表示二次电子流。
二次电子能量较低。一般不超过50 ev,大部分几ev;
来自表层5—10nm深度范围;
对样品表面化状态十分敏感,因此能有效地反映样品表面的形貌;
其产额与原子序数间没有明显的依赖关系。因此,不能进行成分分析。
3、吸收电子:入射电子进入样品后,经多次非弹性散射,能量损失殆尽,最后被样品吸收。用IA示吸收电子流。若样品足够厚,透射电子流IT=0,则有IA=I0 -(I b+IS) (I0—入射电子流)
吸收电子信号调制成图像,其衬度恰好和S、E或B、E信号调制图像衬度相反
与背散射电子的衬度互补。入射电子束射入一个多元素样品中时,因Se产额与原子序数无关,则背散射电子较多的部位(Z较大)其吸收电子的数量就减少,反之亦然;
吸收电子能产生原子序数衬度,即可用来进行定性的微区成分分析 。
4、透射电子:如样品足够薄,则会有一部分入射电子穿过样品而成透射电子。用IT示透射电子流。
透射电子信号由微区的厚度,成分和晶体结构决定
透射电子包括:弹性散射电子和非弹性散射电子(各种不同能量损失,特征能量损失ΔE,与区域成分有关)可利用特征能量损失ΔE电子配合电子能量分析器进行微区成分分析。即电子能量损失谱EELS。
5、特征X射线:指原子的内层电子受到激发后,在能级跃迁过程中直接释放的具有特征能量和特征波长的一种电磁波辐射。 特征X射线的波长和原子序数间的关系服从莫塞莱定律。
(Z—原子序数,K、σ—常数)特点:
用特征值进行成分分析
来自样品较深的区域
6、俄歇电子:如果原子内层电子在能级跃过程中释放出来的能量ΔE并不以X射线的形式发射出去,而是用这部分能量把空位层的另一个电子发射出去(或空位层的外层电子发射出去),这一个被电离的电子称为俄歇电子。每种原子都有自己的特定壳层能量,所以它们的俄歇电子能量也各有特征值。
各元素的俄歇电子能量值很低,50~1500ev ;
来自样品表面1—2nm范围。其平均自由程很小(1 nm ), 较深区域产生的俄歇电子向表面运动时必然会因碰撞损失能量而失去特征值的特点。因此,只有在距表面1nm左右范围内逸出的俄歇电子才具有特征能量。因此它适合做表面分析。
3.分析电磁透镜对电子波的聚焦原理,说明电磁透镜的结构对聚焦能力的影响。
4.影响电磁透镜景深和焦长的主要因素是什么?景深和焦长对透射电子显微镜的成像和设计有何影响?
(1)景深:影响它的因素有电磁透镜分辨率、孔径半角 。
焦长:影响它的因素有分辨率、像点所张的孔径半角、透镜放大倍数。
2·大的景深和焦长不仅使透射电镜成像方便,而且电镜设计荧光屏和相机位置非常方便。
5.消像散器的作用和原理是什么?
6.比较光学显微镜和电子显微镜成像的异同点。电子束的折射和光的折射有何异同点?
答电子衍射与X射线衍射相比具有下列特点
1电子波的波长比X射线短得多因此在同样满足布拉格条件时它的衍射角度很小10-2 rad而X射线最大衍射角可
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