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シリカガラスの製造方法 SiCl4 O2 (GeCl4) 1200 ?C Cl2 Pump (20 mbar) Microwave plasma PCVD (Plasma activated Chemical Vapor Deposition) T. Li. Ed., Optical Fiber Communications I, Fiber Fabrication, Academic Press (1985) VAD (Vapor-phase Axial Deposition) OVD (Outside Vapor Deposition) シリカガラス系プレーナ光回路作製プロセス 大森 保治，「非晶質シリカ材料応用ハンドブック」， リアライズ社 (1999), p. 572 火炎堆積　(FHD) 法 大森 保治，「非晶質シリカ材料応用ハンドブック」， リアライズ社 (1999), p. 572 スート再溶融法の特徴 ? 高速合成バーナ ? 複数バーナ ? マンドレル径，スート径拡大 ? 高速合成バーナ ? 支持管内径の拡大 ? スート外付けまたはクラッド 管にロッドインチューブ 量 産 化 ? 単一モード：コアスートの小 径化要，クラッドバーナによ る厚いクラッド層の同時堆積 ? 多モード：コア中心部とクラッ ド部の膨張差によるクラック ? 単一モード：合成シリカ管を 用い堆積ガラス堆積を減量 ? 多モード：堆積層数～100層 ファイバ対応 ? 透明化に先立ってCl含有雰 囲気中でスート体を脱水処 理 ? Cl含有雰囲気中でスート体 を透明化 ? ガラス化反応雰囲気中に Cl を導入 脱OH処理 ? スート堆積表面の温度と温 度分布による ? 層毎に原料ガス成分を調整 ? 屈折率分布形成の柔軟性が 大きい ? 層毎に原料ガス成分を調整 ? 屈折率分布形成の柔軟性 が大きい 屈折率分布 ? スート体の粘性焼結 ? スート体からマンドレルを除 去 ? スート体の粘性焼結 ? 堆積層毎に透明ガラス化 ? ガラス層堆積後支持管を中 実化 透 明 化 ? 気相塩化物原料の火炎加水 分解 ? 気相塩化物原料の火炎加水 分解 ? 気相塩化物原料の高温熱 酸 化 ガラス化反応 ? 種棒先端にスート体を軸方 向に成長 ? 堆積バーナに対し種棒は引 き上げられる ? マンドレル棒外周にガラ ス微粒子 (スート) 層を半 径方向に層状に堆積 ? 堆積バーナがマンドレル 軸方向に往復 ? シリカガラス支持管内壁に ガラス層を半径方向に層 状 に堆積 ? 加熱バーナが支持管軸方向 に往復 基本プロセス VAD OVD MCVD 特　　徴 坂口茂樹，「非晶質シリカ材料応用ハンドブック」， リアライズ社 (1999), p. 517 * * 福井大学 工学部 葛生 伸 シリカガラスの分類 液相 LPD 法 ゾル?ゲル法 溶融 電気溶融 ( I 型) 火炎溶融 ( II 型) 合成 気相 直接法 ( III 型) プラズマ法 ( IV 型) スート再溶融法 MCVD法 OVD法 VAD法 シリカガラス 電気溶融法 ( I 型溶融石英ガラス) 電気炉による溶融 電気炉による溶融 電気溶融法 ( I 型溶融石英ガラス) 先久保邦彦，New Glass, 4, 29 (1987) 電気溶融法 ( I 型溶融石英ガラス) 電気炉による溶融 アークプラズマによる溶融 電気溶融法 ( I 型溶融石英ガラス) アークプラズマによる溶融 電気溶融法 ( I 型溶融石英ガラス) 電気炉による溶融 アークプラズマによる溶融 電気溶融管引き法 電気溶融管引き法 電気溶融法 ( I 型溶融石英ガラス) 特開昭47-41640 火炎溶融法 ( II 型溶融石英ガラス) コラム方式 火炎溶融法 ( II 型溶融石英ガラス) コラム方式 火炎溶融法 ( II 型溶融石英ガラス) コラム方式 スラブ方式 火炎溶融法 ( II 型溶融石英ガラス) スラブ方式 溶融石英ガラスの特徴と用途 特徴 耐熱性に優れる 各種シリカガラスの粘度ηのOH濃度依存性 1200 ℃ 溶融石英ガラスの特徴と用途 特徴 耐熱性に優れる 粒状構造 溶融石英ガラスの粒状構造 （グラニュラリティー） 溶融石英ガラスの特徴と用途 特徴 耐熱性に優れる 　　　　　　　／Al含有 粒状構造 原子吸光分析法 ICP発光分析法 その他の元素はICP質量分析法 各種シリカガラスの不純物濃度の例 1 1000 1 1 50 1 1 1 1