薄膜物理总.docVIP

薄膜制备的真空技术基础： 薄膜制备方法 ?物理方法：热蒸发法 溅射法 离子镀方法 ?化学方法：电镀方法 化学气相生长法 1,气体分子的平均自由程： 气体分子在两次碰撞的间隔时间里走过的平均距离。 ? d — 气体分子的有效截面直 2,单位面积上气体分子的通量：气体分子对于单位面积表面的碰撞频率。 3,流导：真空管路中气体的通过能力。 分子流气体：流导C与压力无关，受管路形状影响，且与气体种类、温度有关。 4,真空泵的抽速: p — 真空泵入口处气体压力 Q — 单位时间内通过真空泵入口处气体流量 5,真空环境划分： 低真空 102 Pa 中真空102 ~ 10-1 Pa 高真空10-1 ~ 10-5 Pa 超高真空 10-5 Pa 低压化学气相沉积：中、低真空（10~ 100Pa）; 溅射沉积： 中、高真空（10-2 ~ 10Pa）; 真空蒸发沉积： 高真空和超高真空（10-3 Pa）; 电子显微分析： 高真空; 材料表面分析： 超高真空。 6,气体的流动状态:分子流状态：在高真空环境下，气体的分子除了与容器壁外,几乎不发生气体分子间的相互碰撞。 特点：气体分子平均自由程大于气体容器的尺寸或与其相当。（高真空薄膜蒸发沉积系统、各种材料表面分析仪器） 粘滞流状态：当气压较高时，气体分子的平均自由程很短，气体分子间的相互碰撞较为频繁。 粘滞流状态的气体流动模式： 层流状态：低流速黏滞流所处的气流状态，即气体宏观运动方向与一组相互平行的流线相一致。 紊流状态：高流速黏滞流所处的气流状态，气体不再能够维持相互平行的层状流动模式，而呈现出一种旋涡式的流动模式。 克努森（Knudsen）准数: 分子流状态Kn＜1 过渡状态Kn＝1~100 粘滞流状态Kn ＞ 100 7,旋片式机械真空泵工作原理： 玻意耳-马略特定律（PV=C）即：温度一定的情况下，容器的体积和气体压强成反比。 性能参数： 理论抽速Sp：单位时间内所排出的气体的体积。 估算：Sp =转子与定子间的体积V×转速f 抽速范围：1~300L/s 极限真空度：10-1 Pa 镇气阀：抽气初始阶段打开。 特点：结构简单、工作可靠 缺点：油污染 9,涡轮分子泵工作原理：通过高速旋转的特定形状的转子叶片（20000- 30000r/min）将动量传给气体分子，并使其向特定方向运动。 工作条件： 1). 必须在分子流状态下工作； 2). 转子叶片必须具有与气体分子速度相近的线速度。 特点：对分子量大的气体压缩比高（氮气109，氢气103）；无油。 适用范围：1~10-8 Pa 10,溅射离子泵工作原理：高压阴极发射出的高速电子与残余气体分子碰撞引起电离放电，电离的气体分子高速撞击Ti阴极溅射出大量Ti原子。活性很高的Ti原子以吸附或化学反应的形式捕获大量气体分子并使其在泵体内沉积下来，实现无油高真空环境。 特点： 1). 气体活性大，抽速大； H2＞O2、H2O、N2 ＞ Ar 2). 被吸附的气体不会再释放出来； 3). 寿命有限； 4). 工作压强范围：10-1~10-8 Pa。 11.热偶真空规工作原理：将作为热丝的Pt通过恒定强度的电流。在达到热平衡以后，电流提供的加热功率与通过空间热辐射、金属丝热传导以及气体分子热传导而损失的功率相等，因而热丝的温度将随着真空度的不同而有规律变化。 测量范围:0.1-100Pa 缺点：非线性，测量结果与气 体种类有关，零点漂移严重。 优点：结构简单，使用方便。 电离真空规工作原理：热阴极发射出的电子在飞向阳极过程中碰撞气体分子使之电离。离子收集极接收电离的离子，根据离子电流强度Ii的大小测量环境真空度。 测量范围：1~10-7Pa 缺点：测量值与所测气体种类有关。 薄膜的物理气相沉积 1.物理气相沉积（Physical Vapor Deposition, PVD）：利用某种物理过程，如物质的热蒸发或在受到粒子束轰击时物质表面原子的溅射等现象，实现物质原子从源物质到薄膜的可控转移过程。 2.阴影效应：蒸发来的物质被障碍物阻挡而不能沉积到衬底上。 3.平衡蒸气压：一定温度下，蒸发气体与凝聚相平衡过程中所呈现的压力。 克劳修斯-克莱普朗（ Clausius-Claperon） 方程： ΔH — 蒸发过程中每摩尔元素的热焓变化，随温 度不同而不同, ΔH (T)； ΔV — 相应蒸发过程中物质体积的变化，ΔV≈V 。 衬底上沉积物质的质量密度： 点蒸发源 面蒸发源（Knudsen）余弦定律 4.薄膜沉积速率正比于气体分子的通量。 元素蒸发速率：单位表面上元素的净蒸发速率 α — 系数，介于0~1之间； pe、ph — 平衡蒸气压和实际情况下的分压。 单位表面上元素的质量蒸发速率： 对元素蒸发速率影响最大的因素：蒸发源所处的温