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二、竞争对手专利分析——案例：等离子体刻蚀机专利分析 * 专利集中度分析： 反映对于特定技术的专利控制格局、竞争和垄断程度 二、竞争对手专利分析——案例：等离子体刻蚀机专利分析 * 各技术分支的专利分布分析： 反映特定领域各分支的专利分布情况及专利集中的重点技术分支 二、竞争对手专利分析——案例：等离子体刻蚀机专利分析 * 技术研发活跃度分析： 反映特定领域技术研发所处的阶段:起步期、发展期、成熟期和衰退期 二、竞争对手专利分析——案例：等离子体刻蚀机专利分析 * 各技术分支历年专利分布分析： 反映各技术分支历年研发的整体状况 二、竞争对手专利分析——案例：等离子体刻蚀机专利分析 * 各类技术效果相关专利历年分布分析： 反映特定技术研发过程中重点关注和解决的主要技术问题 二、竞争对手专利分析——案例：等离子体刻蚀机专利分析 * 技术-功效矩阵分析： 1.反映技术研发及专利布局的聚焦点和空白点 2.有助于企业确定技术研发方向 二、竞争对手专利分析——案例：等离子体刻蚀机专利分析 * 中微半导体 （中国） 三菱（日本） MITSUBISHI 佳能（日本） CANON 三菱（日本） MITSUBISHI 积水化工（日本） SEKISUI CHEM IND 10 索尼（日本） SONY 海别得公司 （美国） HYPERTHERM 东芝（日本） TOSHIBA 海力士（韩国） HYNIX 索尼（日本） SONY 9 爱普生（日本） EPSON 北方微电子 （中国） 索尼（日本） SONY 爱德牌工程 （德国）ADP 日本电气（日本） NEC 8 北方微电子 （中国） 佳能（日本） CANON 三菱（日本） MITSUBISHI 松下（日本） MATSUSHITA 三菱（日本） MITSUBISHI 7 奥林巴斯（日本） OLYMPUS 松下（日本） MATSUSHITA 三星电子（韩国） SAMSUNG 三星电子（韩国） SAMSUNG 三星电子（韩国） SAMSUNG 6 松下（日本） MATSUSHITA 三星电子（韩国） SAMSUNG 松下（日本） MATSUSHITA 北方微电子 （中国） 拉姆研究（美国） LAM RES 5 日立（日本） HITACHI 拉姆研究（美国） LAM RES 拉姆研究（美国） LAM RES 日立（日本） HITACHI 松下（日本） MATSUSHITA 4 拉姆研究（美国） LAM RES 日立（日本） HITACHI 日立（日本） HITACHI 拉姆研究（美国） LAM RES 日立（日本） HITACHI 3 应用材料（美国） APPLIED MATERIALS 应用材料（美国） APPLIED MATERIALS 应用材料（美国） APPLIED MATERIALS 应用材料（美国） APPLIED MATERIALS 应用材料（美国） APPLIED MATERIALS 2 东京电子（日本） TOKYO ELECTRON 东京电子（日本） TOKYO ELECTRON 东京电子（日本） TOKYO ELECTRON 东京电子（日本）TOKYO ELECTRON 东京电子（日本） TOKYO ELECTRON 1 终点检测系统 气体供给与排放系统 射频装置 晶片传输系统 等离子体反应腔 排名 各技术分支主要申请人排名： 反映各技术分支的主要专利申请人 * * * * 专利信息的检索、分析及应用 国家知识产权局知识产权发展研究中心 孙全亮 内容 * 一、国外专利信息检索 二、竞争对手专利分析 三、专利挖掘、布局及规避 一、国外专利信息的检索 2009年11月 任三级专利 审查员 * 美国专商局 世界知识产权组织 日本特许厅 欧洲专利局 主要专利局 2009年11月 任三级专利 审查员 * 一、国外专利信息的检索——美国专商局 官方网站网址：。 网站提供的专利数据库： 1.授权专利数据库；2.公开专利申请数据库；3.失效专利数据库。 2009年11月 任三级专利 审查员 * 一、国外专利信息的检索——美国专商局 美国专商局专利数据库登录界面 1.网址：/patents/process/search/index.jsp 2.登录入口：从常用链接中点击“Patent Search”进入检索界面 3.检索字段 * 一、国外专利信息的检索——美国专商局 ?Important Notices!How to Access FullImagesProblems Accessing the Databases?Report Data Content ProblemsTools to