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PS版与胶印印版制作过程 PS版与胶印印版制作(晒版) 　　一.PS版(版材)的分类、结构及性能 　　版材的分类： 　　——阳图型PS版：用阳图分色片进行晒版的PS版，其感光膜在紫外线照射下产生光分解反应。 　　——阴图型PS版：用阴图分色片进行晒版的PS版， 其感光膜在紫外线照射下产生光聚合反应。 　　分为版基、氧化层、感光膜层 　　版材的结构： 　　——版基：铝金属版基。通常有0.25mm、0.15mm两种厚度。 　　——氧化层：即亲水层，是通过阳极氧化和封孔工艺， 　　在版基一侧形成多孔、坚硬的氧化层。有较强的耐磨、耐蚀、吸水性。 　　——感光膜层：即亲油层，由感光剂（氮醌化合物）、成膜性树脂、染料、溶剂等组成。 　　版主要性能指标： 　　——表面粗糙度：0.40≤Ra ≤0.09（um） 　　——版基面氧化层质量：1.50~3.50(g/m2) 　　——版基面感光层质量：1.60~2.50(g/m2) 　　——分辨率：≤10.0（um） 　　——网点再现范围：2%~98%网点齐全 　　——版基底色密度：≤0.03 　　——感光度：≤300(mj/cm2) 　　——留膜率：≥90% 　　——印版厚度：0.15~0.40mm（厚度偏差？0.01mm） 　　——印版尺寸：符合GB/T 17155-1997 　　——耐印力：未定 　　注：影响印版耐印力的主要因素 　　①PS版感光膜附着力 　　②分色片实地密度 　　③印刷压力 　　④纸张含杂质（砂粒）量 　　⑤润版液Ph值 　　二.胶印印版制作（晒版）工艺流程 　　分色片输出→曝光→显影→修版→后处理→印刷 　　——曝光：是把分色片与PS版药膜面紧密接触，用紫外线光源（如碘镓灯）（光谱范围约360~430毫微米）进行曝光。 　　——显影：是把（经曝光）产生光分解反应的（非印刷区域）感光膜，在稀碱溶液中溶解，露出氧化（亲水）层。 　　——修版：把经水洗后的印版，用除脏剂（由相关溶剂、增浓剂、染料、润湿剂等组成）进行修版除脏作业。 　　——后处理：包括烘干、烤版、提墨、擦胶等。 　　·烤版：主要是为了提高印版的耐印力。在230℃~250℃温度下烤版5~8分钟。 　　·提墨：为提高版面图文部分的反差（便于检查）、保护图文印刷部分的感光膜不受光的损害、增加印版的吸墨性，在版面涂以提墨剂。 　　·擦胶：为保护制作好的印版，防止氧化和灰尘污染，在版面涂擦护版胶（如阿拉伯树胶）。 　　三. 对分色片质量的要求 　　——片基灰雾密度≤0.15 　　——实地密度≥3.50 　　——通透性：网点透明部分密度（不包括片基）≤0.10 　　——网点边缘宽度≤网线宽度/40（um） 　　——软片线性化误差≤±2% 　　——套准误差（对角线）≤0.02% 　　——版面清洁、无划痕、折痕等。