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TCO磁控溅射专业词汇 TCO（Transparent conductive oxide）玻璃，即透明导电氧化物镀膜玻璃 ，是在平板玻璃表面通过物理或者化学镀膜的方法均匀镀上一层透明的导电氧化物薄膜。 AZO ZnO：Al （Al-doped ZnO，Aluminum-doped zinc oxide） 氧化铟锡 ITO In2O3：SnO2 氧化锡掺氟FTO SnO2：F 其中AZO ，ITO， FTO均为TCO的一种。 磁控溅射 Magnetron sputtering 中频 MF Mid-frequency 直流 DC Direct current 交流 AC Alternating current 射频 RF Radio frequency 物理气相沉积 PVD Physical Vapor Deposition 化学气相沉积CVD Chemical Vapor Deposition 等离子体增强化学气相沉积PECVD Plasma enhanced CVD 双平面阴极 Double planar Cathode 孪生阴极 Twin-Mag CathodeAZO陶瓷靶 AZO ceramic target透过率 transmittance 反射率 reflectivity 吸收率 absorbtivity 空气质量 AM air mass 面电阻 sheet resistance 辉光放电 glow discharge打弧 arcing靶中毒 target poisoning 载流子浓度 carrier concentration 霍耳迁移率 Hall mobility 电阻率 resistivity 四探针（测量面电阻）Four-point-probe 托 架 carrier 装片台 Load locking 进口室 Entrance chamber 加热室 Heating chamber 传送室 transfer chamber工艺气体 Process Gasutilization 靶材寿命 target lifetime 洛伦兹力 Lorentz force 磁场强度 Magnetic field strength 惰性气体 Noble gas（Ar Argon） 生产速率 growing speed 薄膜结构 film structure 热电偶 thermocouple 靶材冷却 target cooling 本底真空 base pressure1.01×105～1.33×103Pa 高真空 high vacuum 1.33×10-1～1.33×10-6Pa 超高真空 ultra high vacuum 1.33×10-6～1.33×10-10Pa 0.5%盐酸 diluted hydrochloric acid刻 蚀 etching在线中频磁控反应溅射 in-line reactive MF magnetron sputtering 晶粒尺寸 Grain size阳极，正极 node 阴极，负极 CathodeCathodic Protection 冷阴极真空规 MPG 薄膜电容规 CDGcontroller 螺杆泵 Screw Pump 旋片泵 Rotary Vane Pump 罗茨泵 Roots Pump 分子泵 Turbomolecular Pump 漏率 leak rate 单晶硅 Mono crystal silicon 晶体硅 C-Si, crystalline-silicon 微晶硅 microcrystal silicon 非晶硅 amorphous silicon a-Si:H 碲化镉 CdTe Cadmium-Tellurid 铜铟镓硒 CIGS Copper Indium Gallium Diselenide C