膜厚的测量与监控讲解.pptxVIP

膜厚和淀积速率的测量与监控 XXX 2016年9月20日 2—5 薄膜的性质和结构主要决定于薄膜的成核与生长过程，实际上受许多淀积参数的影响 引言 衬底温度 粒子性质 角分布 “ ” 本节将着重介绍薄膜厚度的测定和监控方法。 沉积速率的测定与监控，只要是能在制膜过程中有连续反映膜厚能力的测试方法，再计及时间间隔，都可以用来作为沉积速率测定与监控的方法。 引言 基本概念 薄膜 在基板的垂直方向上所堆积的1～ 104 的原子层或分子层 厚度 是指两个完全平整的平行平面之间的距离，是一个可观测到实体的尺寸。因此，这个概念是一个几何概念。理想的薄膜厚度是指基片表面和薄膜表面之间的距离 薄膜的分类 薄膜具有微观结构 膜厚既是一个宏观概念，又是微观上的实体线度 平均表面 平均表面是指表面原子所有的点到这个面的距离代数相等于零，平均表面是一个儿何概念。 膜厚的分类 G：实际表面 P：平均表面 基片表面Ss：基片一侧的表面分子的集合的平均表面 薄膜形状表面Sr：薄膜上不与基片接触的那一侧的表面的平均表面 薄膜质量等价表面Sm : 将所测量的薄膜原子重新排列，使其密度和块状材料相同且均匀分布在基片表面上的平均表面 薄膜物性等价表面Sp : 根据测量薄膜的物理性质等效为一定长度和宽度与所测量的薄膜相同尺寸的块状材料的薄膜的