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Al2O3包覆V2O5薄膜电化学稳定特性研究 　　[摘 要]随着可穿戴电子产品的发展，薄膜型锂离子电池受到了更多的关注，其中V2O5薄膜正极材料因为其极高的理论容量成为了一种广泛研究的材料。但是由于V2O5薄膜在电化学的工作环境中极易与电解液发生反应，导致V2O5薄膜的循环使用寿命大幅下降。我们使用原子层沉积技术利用Al2O3在V2O5薄膜表面形成钝化层，详细研究了在电化学循环中的V2O5薄膜表面的变化，以及钝化层存在下的V2O5薄膜电化学特性的改进。包覆后的V2O5薄膜显示了更好的循环性和倍率性能。 　　[关键词]氧化钒，薄膜，锂电池，ALD包覆 　　中图分类号：TM912.9 文献标识码：A 文章编号：1009-914X（2016）18-0004-03 　　1 引言 　　大量的可穿戴式电子设备使得薄膜型的电极材料重新受到了广泛的关注。在热门的正极材料中，V2O5具有最高的理论容量，是薄膜电池中的一个重要研究方向。然而正常工艺制备的V2O5材料并不稳定，在多次充放电过程中比容量会发生较大的衰减，其主要原因除了多次充放电过程中材料本身结构的坍塌，还有包括在电解液中、电极/电解液表面发生的副反应[1]。 　　为了提升V2O5材料的稳定性，减少电极表面溶解、副反应对纳米电极的影响，许多研究者们尝试为电极表面提供一层物理性的保护，在纳米材料表面包覆碳[2-4]、金属氧化物（ZnO2、TiO2、Al2O3[5-12]）、金属氟化物（AlF3[13-15]），以提高纳米材料的电化学性能。对于导电性较差的电极材料来说其表面的钝化层会加大材料的电阻，所以精确的控制包覆层的厚度和均匀性至关重要。相比于其他常用的表面包覆手段如：物理机械研磨、化学液相包覆、化学气相沉积等方式，ALD原子层沉积（Atomic Layer Deposition）对薄膜生长的精确控制达原子数量级，沉积层均匀平滑、厚度可控、重复性好、呈现优异的一致性，目前已经在多种电极材料中实现了有效的性能提高。 　　本文利用溶胶凝胶法制备制备了一种多孔V2O5爆膜，并利用ALD技术在V多孔薄膜上包覆原子级厚度的Al2O3，并研究了包覆后的V2O5薄膜的电化学性能，从电解液/电极界面的角度探究V2O5材料容量衰减的原因。 　　2 实验制备与测试 　　将V2O5粉末（分析纯，纯度≥99.6%）、异丙醇（IP，（CH3）2CHOH，分析纯，纯度≥99.7%）、苯甲醇（BA，C6H5CH2OH，分析纯，纯度≥99.0%）以一定摩尔比混合，在常温环境下搅拌30 min后，放在110℃油浴环境中加热搅拌4h，搅拌结束后，待溶液冷却至室温，真空抽滤，过滤掉溶液中未反应完的V2O5粉末，13 形成黄色透明状的V2O5溶胶，将得到的溶胶在 110°C温度下蒸馏至原体积的 。再将溶胶以 2500 r/min 速度离心 30min，去除溶胶中的颗粒、大分子，留作备用。 　　选用镀有 ITO（In2O3：Sn）的导电玻璃为基片，基片先分别用中性洗涤剂、丙酮、酒精超声振荡清洗，再用去离子水冲洗、氮气吹干，再将基片放于 50°C 烘箱中备用。提拉镀膜在充满饱和丙酮蒸汽的环境中进行，制得的V2O5薄膜利 用表面张力较小的有机溶剂丙酮和环己烷进行溶剂替换，常温真空干燥后得到 V2O5多孔薄膜。V2O5薄膜在空气气氛 300°C下处理3h，然后在反应器200°C的环境下进行 Al2O3原子层沉积，其中V2O5厚度在几 十纳米左右，Al2O3薄膜厚度为2。 　　薄膜样品的电化学测试在自主设计的三电极测试装置中进行，工作电极（W.E） 为镀在 ITO（In2O3：Sn）导电玻璃基底上的薄膜，对电极（C.E）与参比电极（R.E） 均为锂片，电解液采用含有 LiPF（6 1M）的碳酸乙烯酯（EC）、碳酸甲乙酯（EMC） 和碳酸二乙酯（DEC）的混合溶液，其中 EC：EMC：DEC=1：1：1（体积比）。薄 膜的反应电极面积为 2.5cm×1.5cm。 　　电化学性能测试在 CHI660C（上海辰华仪器有限公司）电化学工作站上进 行。恒流充放电在蓝电测试系统（CT2011A）上进行，所有的电化学测试均在充 满氩气的手套箱中进行，其中 O2、H2O 的含量均小于1ppm。扫描电子显微镜（SEM，Philips-XL-30FEG），透射电子显微镜（TEM，Jeol-1230），X射线光电子能谱（XPS，Phi-5000C-ESCA）用于表征材料的表面形貌、微观结构。 　　3 测试与讨论 　　图1是V2O5薄膜进行ALD包覆Al2O3前后的SEM图象，可以看到V2O5薄膜表面具有纳米孔洞，进行ALD循环后，Al2O3均匀覆盖在V2O5的薄膜表面上，薄膜表面变得致密、更平整，薄膜表面仍然保持平滑，表