精密低损耗光学元件制造与检测技术.doc

精密低损耗光学元件制造与检测技术 本成果针对实现高质量、低损耗光学的制造可玻璃、等材料0－60V。 采用自主研制的磁流变抛光装置和磁流变液，在30min内，可以将表面粗糙度Ra为200nm的石英玻璃加工到0.54nm（Ra，RMS）本项目将脉冲电弧离子镀、非平衡磁控溅射技术与离子束辅助蒸发沉积技术有机结合在一起，光学薄膜组合沉积系统技术指标： 真空系统内腔尺寸：Ф800×900mm；溅射、电弧装置及清洗离子源主要技术指标： 脉冲电弧源（1个） 非平衡磁控溅射源（1个） 清洗辅助离子源（1个） 脉冲频率：1～10Hz可调； 起弧电压1：800V； 起弧电压2：0～600V可调； 主放电电压0～500V可调； 主回路充电电流： ≥30A； 阴极靶最大电流密度：30~50mA/cm2； 最大放电电压：800V； 电源总功率： 6kw； 最大励磁电流：150A 离子能量：400eV～2000eV； 离子束流密度：3~140μA/cm2； 电源总功率：600 w 连续工作时间：≥240min 被加工工件直径≤Ф300，工件夹具采用三叶平面行星运动上驱动方式，3～30rpm无级变速，连续可调；加工过程中工件温度可控可调，最高温度为350℃，控温精度±1℃；热蒸发装置美国TELEMARK公司294-08型电子枪；一组水冷式电阻蒸发源，功率4.5KW8V,600A）；光学膜厚控制波长范围3