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- 2017-04-01 发布于广东
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2004年春季B0答案要点.doc
哈工大 2004 年 春 季学期
集成电路设计原理 试 题 B
答案要点
简述题(40分)
1. 双极型pn结隔离工艺中的n+埋层有哪些作用?。
减小外延层电极的串联电阻,减小寄生PNP晶体管效应(加大了寄生PNP晶体管的有效基区宽度,形成了寄生PNP晶体管基区减速场)
2. 在双极型集成电路版图设计中划分隔离区的原则是什么?。
以器件的外延层区为标准,处于外延层的电极相接的器件,可以放在同一个离去,否则单独放在一个隔离去,电阻根据电阻类型(结构)参照上述原则执行,使电阻之间电隔离
3. 有比电路和无比电路有哪些差异?
有比电路静态输出电平(高电平或低点平)与输出管和负载管的宽长比的比值有关,而无比电路静态输出电平(高电平或低点平)与输出管和负载管的宽长比的比值无关。
4. CMOS集成电路版图设计中抗闩锁的措施有哪些?
阱和衬底的电源、地欧姆接触注入区要充分均匀分布,器件有源区边界远离阱的边界,必要时采用环或双环(伪收集极)结构。
8.设计MOS电流镜电路时,应注意什么问题?
使器件都工作在饱和区,沟到长度尽量选择长一些,减小沟道长度调制效应影响,提高输出阻抗。
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试 题:集成电路设计原理 B 答案要点
二、画出典型pn结隔离工艺双极型集成电路中的双基极双集电极npn晶体管的平面图(版图)和对应的剖面图,并按工艺流程先后顺序写出所需的光刻掩膜版名称,同时在图中对应图形上标明。(16分)
(1)埋层扩散 (2)隔离扩散 (3)基区(硼)扩散
(4)发射区(磷)扩散 (5)引线孔 (6)金属
第 2 页 (共 5 页)试 题:集成电路设计原理 B 答案要点
三、右图是一CMOS单元电路的版图,a) 画出对应的电路图;b) 分析电路功能,写出逻辑表达式;c) 按工艺流程的先后顺序,写图中所用到的光刻掩膜版名称,并在图中选择典型图形标明(16分)
异或非门 F=A(C
(1)nwell (2)active (3)poly
(4)pplus (5)cont (6)metal
(画出逻辑图对应的电路图)
第 3 页 (共 5 页)试 题:集成电路设计原理 B 答案要点
四、分析右图所示CMOS
运放电路,①说明M1
和M2的作用;②说明
M5和Rr的作用;③说
明M5、M6和M8的作
用。(12分)
M1、M2以镜像电流源方式作为差分放大级M3、M4的有源负载,提高增益,同时完成了单端化。
M5、Rr, 作为偏置电路形成参考电流Ir
M5、M6和M8构成镜像电流源,M6为差分放大级提供稳定的工作电流,提高共模抑制比,M8作为输出放大级有源负载,提高增益。I2=I1,I3=2I1
第 4 页 (共 5 页)试 题:集成电路设计原理 B 答案要点
五、分析下面电路的功能,并写出各输出端的逻辑表达式。(16分)
CMOS全加器电路,
CA(进位)输出表达式,SU(和)输出表
第 5 页 (共 5 页)
(4)
(2)
(1)
(6)
(3)
(5)
B
C
N+(4)
(4)
(3)
(1)
(2)
(5)
(6)
C
B
E
P_sub
N_epi
P (3)
N+(4)
N+(4)
P+
(2)
P+
(2)
N+(1)
F=ABC F=ABC
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