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- 2017-04-01 发布于广东
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2004年秋季B.doc
哈工大 2004 年 秋 季学期
班号 姓名
集成电路设计原理 试 题 B
题号 一 二 三 四 五 总分 分数 (20分)典型PN结隔离集成电路工艺中用到的光刻掩膜版有:硼扩散、引线孔、埋层扩散、磷扩散、隔离扩散、钝化窗口、金属引线。
(1)请按工艺流程的先后顺序对它们进行排序。(4分)
(2)硼扩散形成横向pnp晶体管的什么区?(4分)
(3)对于横向pnp晶体管,埋层扩散和磷扩散分别有哪些作用?隔离区划分原则是什么?(12分)
第 1 页 (共 5 页)
试 题:集成电路设计原理B 班号: 姓名:
二、(20分)采用N阱硅栅CMOS工艺设计集成电路版图时用到的版图层次有:poly(多晶),active(有源区),contact(接触孔),nwell(N阱),pplus(P+注入),metal1(金属1),pad(钝化窗口),metal2(金属2),via(通孔),
(1)请按工艺流程的先后顺序对它们进行排序。(5分)
(2)pmos管的源漏区是由哪些层次版图数据确定的?(8分)
(3)哪个层次版图数据制作的掩膜版是用来进行局部氧化用的?局部氧化的作用是什么?(7分)
第 2 页 (共 5 页)试 题:集成电路设计原理B 班号: 姓名:
三、(20分)双极型集成电路、NMOS集成电路和CMOS集成电路中,哪种集成电路需要抗静电设计?哪种集成电路需要抗闩锁设计?举例说明抗静电保护电路原理?
第 3 页 (共 5 页)试 题:集成电路设计原理B 班号: 姓名:
四、(20分) 分析图4给出的电路,阐述各个器件的作用。
第 4 页 (共 5 页)试 题:集成电路设计原理B 班号: 姓名:
五、(20分)根据图5(a)~(d)四个逻辑电路图,
写出每个电路所属类型?(4分)
写出每个电路输出与输入间的逻辑表达式?(12分)
(2)写出每个电路输出端的输出高电平表达式?(4分)
第 5 页 (共 5 页)
图5(d)
图5(c)
图5(b)
图5(a)
图4
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