多光点扫描数字光刻制作DOE的方法研究.pdfVIP

四川大学学报(自然科学版)2007 年 12 月 第 44 卷第 6 期 Joumal of Sichuan University (Natural Science Edition) 文章编号: 0490唰6756(2007)06翩1315翩06 Dec. 2007 Vol. 44 No.6 多光点扫描数字光刻制作 DOE 的方法研究 方亮1，段茜1气郭小伟1，王景全1 ，张志友1 ，杜惊雷1 (1.四川大学物理科学与技术学院纳光子技术研究所，成都 610064; 2. 西南石油大学理学院，成都 610500) 摘要:在 DMD(Digital Micromirror Device)数字光刻系统中使用微透镜阵列聚焦可在像面 获得灰皮点阵圆形，若曝光的同时基底按预设计的方式同步扫描，则可形成所需求的曝光场分 布.这一方法用于衍射微光学元，件(OOE)制作 i可方便快捷获得高质堂的连续面形微结构.文 中通过对扫描方式的分析和计算，排出了 i茬子~滥耳微进镜制作的基片台扫描参数和模拟结 果，为用该系统进行以克实际制作提供了依据. 关键词 :DMD;数字光刻;分辨率;扫描 ;OOE 中图分类号: TN305.7 文献标识码:A Research 00 the method of fabricatiog OOE by digital lithography system with mutipedots scanniog FANG Liαng1 ， DUAN Xi 1,2 , GUO Xiac护机肘1 ， W ANG Jing-quan 1 , m创VG Zhi-yJU 1 , DU J ing-lei 1 (1. Nanophoωni岱 Research Technol，咱y Institute , College of Physical Science and TechnolQ盯， Sichuan Univ创sity ， Chen时u ， 611064; 2. Juthwest Petroleum University ,Chengdu 600500 ,China) Abstract: Gray-tone point 盯可 can be obtained by introducing a microlens array into DMD(Digital Micromir- ror Device)digital litl吨raphy system . At the、 time of e将lOSUre ， the substrate scans synchronously by a de- signed mode in order to form a desirable e将刷ure field.. Using this system to fabricate OOE could obtain a high-quality ωnsecutive microstructure ∞nveniently and swiftly. In this paper , the scan parameters of sub- strate and simulation results that were suitable for fabricating Fresnel diffractive microlen were given out through the analysis and calculation of the scan mode , which provids a basis for the use of this system to fabri- cate OOE practically. Key words: DMD， digitallithography ， resolution ，优皿，OOE 1 ~I 宫旨在唱 制作∞旦的传统方法有二元光学技术、撒光 直勾技术、电子柬直写技术等[1] 在二元光学技术 中，光掩模的制作加工是一道比较繁琐复杂的工 序，对掩模和褒刻工艺有较商的要求，加工成本相 收稿日期 :2007恼。6-03 对昂贵.激光直写技术和电子束宽写技术均采用单 点扫描曝光，工作效率较低[2叫)以激光直写为 例，当焦斑大小为1. 5μm(1 /e 光强点)、扫描线间 距为 1μm和写人速度为 10 mm/s 时，完成 1 个 10 mm 因片的曝光大约槽要 2~3 h[5). 为降低制作成 本且获得较高的工作效率，近年来，人们提出利用 .金项目:阂家商然科学基金(剧676024 ， ;微细加工光学技术阔家激点实验蜜葱余 作者简介:方亮(1980 一) ，男，湖北汉川人，四川大学物理科学