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X射线能谱分析技术
引言
?任何能谱仪(EDS)或波谱仪(WDS)并不能独立的
工作,能谱仪或波谱仪通常作为现代扫描电镜和透射电
镜的常规附件。
?专门利用能谱仪或波谱仪进行成分分析的仪器,它使用
微小的电子束轰击样品,称这种仪器为电子探针X射线
显微分析仪(EPMA)。
?结合X射线谱仪,把电镜转变为更有力的仪器:
分析型电子显微镜(AEM)
目录
X射线信号产生1
X射线能谱(EDS)仪2
X射线能谱分析技术3
目录
1.X射线信号产生
?物质受到高能粒子轰击所发出的波长为10-3~100 ? 的
电磁辐射称为X-射线。
?X-射线的强度:单位时间内通过某一面积的X-射线光
子的数量, 用cps 表示:count - per - second
连续X-射线与特征X-射线
?连续X-射线:束电子与原子的原子核库仑电场相互作用,
受到库仑电场制动,逐渐减速,同时辐射出X-射线。
?特征X-射线:束电子与原子相互作用,把原子的内层电
子激发出来,在原子的内壳层上留下一个空位,这时原子
处于受激状态;紧接着发生电子跃迁,外层电子跃迁到内
层填补空位,从而使原子恢复到基态;电子跃迁的同时释
放出具有特征能量的X-射线。
X-射线的性质
?波粒二重性
?X-射线以光速传播,在电、磁场中不发生偏转
?X-射线会使气体、液体、固体电离
?X-射线有散射、吸收、荧光特性
?X-射线可使感光材料曝光
?X-射线与物质相互作用可以改变一些晶体结构
1.X射线信号产生
1.X射线信号产生
1.X射线信号产生
1.X射线信号产生
1.X射线信号产生
1.X射线信号产生
1.X射线信号产生
1.X射线信号产生
1.X射线信号产生
电子能级和特征X-射线
主量子数n=1,2,3…(K,L,M … )
轨道量子数l=0,1,2 … (s,p,d … )
总角动量量子数j ∣ l -1/2∣≤ j ≤ l+1/2
电子跃迁遵从选择规则轨道量子数△l=+1
2、X射线能谱仪
⑴
⑵ X射线能谱仪分析技术
X射线能谱仪原理
⒉X射线能谱仪
半导体探测器
信号处理器
多道脉冲高度分析器
Si (Li )detectors
Ge detector
amplifying the
charge signal ,
and converting it to
a voltage signal
measuring the voltage
height of each event,
and sorts the events into
a multichannel memory.
EDS探测器和电镜 样品室
X-探头的窗口和晶体部分
(Sapphire)
Ca Xray = 3690 eV/3.8 eV/e- = 971 e-
Eb
N Xray = 392 / 3.8 = 103 e-
不同窗口对K 系X-射线的穿透率
Window
Type
B C N O F
8 micron Be 0% 0% 0% 0% 5%
SUTW
0.3 micron
25% 85% 42% 60% 70%
能量分辨率
? Typically, Mn Kα
? Si(Li) detector 140ev
? IGe detector 114ev
X-射线的空间分辨率
X-射线的空间分辨率
TEM薄样品的X-射线的空间分辨率
定义示意图
3. X射线能谱分析技术
3 .1定性分析
3. X射线能谱分析技术
3.2定量分析
?KA= IA/I(A)=CA
IA----试样中A 元素特征X 射线的强度(脉冲计数).
I(A)----纯A 样品(标样)的X 射线强度.
但在一般情况下,KA 并不等于CA,有时要偏离20%以上。这是
由于入射电子进入试样后,要受到试样原子的散射; 电子束
激发样品而产生的 X 射线射出试样时要受到试样的吸收;不
同元素发射的X 射线(连续X 射线和特征X 射线)还会使被分
析元素产生荧光X 射线。这一系列过程都随试样和标样的组
成而变化,所以KA 与CA 不成简单的线性关系。要从实测的
X 射线强度比KA 求得CA, 必须进行如下三方面的修正:
定量分析
? ZAF 定量修正方法
? 利用的是计算法的原理,并对其进行修正
? ZAF 定量修正方法是最常用的一种理论修正法,一般电
子探针或能谱都有ZAF 定量分析程序。
?修正的起因:因为试样中A 元素特征X 射线的强度(脉冲
计数)IA 与试样中单位体积内的A 元素的原子数, 即和
A 元素的含量成比例,所以只要在相同条件下(如加速电
压、探针电流等相同),测出试样中 A 元素的X 射线强度
IA 与纯A 样品(标样)的X 射线强度I(A)之比:
KA=IA/I(A) ,应该等于元素的浓
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