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声发射(acoustic emission,简称AE)是指材料或结构受外力或内力作用产生变形或断裂,以应力波形式释放出应变能的现象。
① 应变能足够强,则人耳可以听到。
② 许多金属材料的声及射信号强度很弱,人耳不能直接听见,需要藉助灵敏的电子仪器才能检测出来。
什么是声发射?
声发射源
如何产生声发射?
起重机主梁裂纹检测
管道裂纹检测
声发射源的典型例子
储油罐漏油检测
变压器局部放电检测
声发射源的典型例子
声发射信号类型
目前人为的将声发射信号分为突发型和连续型。
如果大量的声发射事件同时发生,且在时间上不可分辨,这些信号就叫做连续型声发射信号。一般流体泄露,金属塑性变形等都是连续型信号。
声发射信号分析
撞击计数
振铃计数
幅度
能量计数
上升时间
持续时间
有效值电平
平均信号电平
声发射信号分析
撞击:超过门槛并使某一个通道获取数据的任何信号称之为一个撞击。它反映了声发射活动的总量和频度,常用于声发射活动性评价。
事件:同一个撞击被多个通道同时检测到并能进行定位.
计数:超过门槛信号的振荡次数,用于声发射活动性评价。
事件计数的大小反映了与材料内部损伤、断裂源的多少有关。
事件计数率
(单位时间事件计数)
声发射信号分析
参数
含义
特点和用途
撞击和撞击计数
超过阈值并使某一通道获取数据的任何信号称之为一个撞击。所测得的撞击个数,可分为总计数、计数率
反映声发射活动的总量和频度,常用于声发射活动性评价
事件计数
产生声发射的一次材料局部变化称之为一个声发射事件。可分为总计数、计数率。
反映声发射事件的总量和频度,用于源的活动性和定位集中度评价,与材料内部损伤、断裂源的多少有关
幅度
信号波形的最大振幅值,通常用dBae表示(传感器输出1μV为0dB)
与事件大小有直接的关系,直接决定事件的可测性,常用于波源的类型鉴别、强度及衰减的测量
声发射信号分析
参数
含义
特点和用途
能量计数
信号检波包络线下的面积,可分为总计数和计数率
反映事件的相对能量或强度。对门槛、工作频率和传播特性不甚敏感,可取代振铃计数,也用于波源的类型鉴别
振铃计数
当一个事件撞击传感器时,使传感器产生振铃。越过门槛信号的振荡次数,可分为总计数和计数率
信号处理简便,适于两类信号,又能粗略反映信号强度和频度,因而广泛用于声发射活动性评价,但受门槛值大小的影响
持续时间
信号第一次越过门槛至最终降至门槛所经历的时间间隔,以?s表示
与振铃计数十分相似,但常用于特殊波源类型和噪声的鉴别
声发射信号分析
参数
含义
特点和用途
上升时间
信号第一次越过门槛至最大振幅所经历的时间间隔,以μs表示
因受传播的影响而其物理意义变得不明确,有时用于机电噪声鉴别
有效值电压
采样时间内,信号的均方根值,以V表示
与声发射的大小有关,测量简便,不受门槛的影响,适用于连续型信号,主要用于连续型声发射活动性评价
平均信号电平
采样时间内,信号电平的均值,以Db表示
提供的信息和用途与RMS相似,对幅度动态范围要求高而时间分辩率要求不高的连续型信号,尤为有用。也用于背景噪声水平的测量
声发射信号分析
声发射源定位
为了在固体材料表面某一范围测量出缺陷的位置,可以将几个压电传感器按一定的几何关系放置在固定点上,组成传感器阵
在检测过程中可以根据各个声发射传感器检测到的声发射信号的特征参数来确定或计算声发射源的位置。
声发射源的定位,需由多通道声发射仪器来实现,也是多通道声发射仪最重要的功能之一。
声发射信号分析
连续信号源定位,主要用于压力泄露源的定位,这里我们着重讨论突发信号定位。
声发射信号分析
声发射源定位
区域定位:是一种处理速度快、简便而又粗略的定位方式,主要用于复合材料等由于声发射频度过高或传播衰减过大或检测通道数有限而难以采用时差定位的场合。
区域定位主要包含两种方式:
1.独立通道定位方式
2.按信号到达顺序定位
声发射信号分析
声发射源定位
时差定位
当用两个或多个传感器进行声发射检测时,各传感器接收到来自声发射源的时间是不一样的,所以可以通过 时差确定出声发射源的位置。
常用时差定位方法:
1. 线定位
2. 平面定位
3. 三维立体定位
声发射信号分析
声发射源定位
线定位
当被检测物体的长度与半径之比非常大时,易采用线定位进行声发射检测,如管道、棒材、钢梁等。
时差线定位至少需要两个声发射探头,到达 1号探头的时间为t1,到达2号探头的时间为t2,因此,该信号到达两个探头之间的时差为: △ t = t2-t1,如以D表示两个探
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