非平衡磁控溅射选编.pptVIP

非平衡磁控溅射及应用;主要内容;一、非平衡磁控溅射;二、分类;镜像：由于两个靶磁场的相互排斥，纵向磁场都被迫向镀膜区外弯曲，电子被引导到真空室壁上流失，总体上降低了电子进而离子的数量。由于镜像磁场方式不能有效地束缚电子，等离子体的溅射效率未得到提高。 闭合磁场：非平衡靶对在镀膜区域的纵向磁场是闭合的。只要磁场强度足够，电子就只能在镀膜区域和两个靶之间运动，避免了电子的损失，从而增加了镀膜区域的离子浓度，大幅度提高了溅射效率。;三、特点;四、研究实例（一）;1#试样表面局部小面积薄膜脱落，2#，3#撑试样仍然没有起皮和薄膜脱落现象发生。这可能是由于l#试样的薄膜比较厚的原因造成的。 热震实验结果表明：SiN薄膜与AZ31镁合金基底之间的结合力良好，足以满足应用需要。;四、研究实例（二）;在腐蚀电位附近，各样品的极化电流都随极化过电位的增大而快速增加，表明电极化过程受电子转移的电化学活化控制。当阳极极化到弱极化区后。极化电流随极化电位的升高而增大，但极化曲线的斜率愈来愈大，即电极过程的阻力越来越大，电子的转移越来越困难 由图可知，当极化电位进一步升高，Ti／TiN多层膜极化曲线出现转折点，在转折点以上极化电流迅速增加，说明镀层表面出现了局部腐蚀或镀层中原有微观孔隙因腐蚀而贯穿到了铀基体，局部活性点构成了大阴极小阳极的腐蚀电偶对，从而加快了样品的腐蚀。;参考文献;