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电工材料 2016 No.2 张愿成等：多晶酸制绒添加剂对硅片绒面的影响 3
研究·分析
多晶酸制绒添加剂对硅片绒面的影响
张愿成，胡彭年，王训春，赵欣侃
（上海太阳能工程技术研究中心有限公司，上海 200241 ）
摘要：在HNO -HF 制绒体系中加入添加剂，对硅片进行制绒，并对制绒后的硅片进行了表面形貌分析
3
和光学性能表征。腐蚀深度结果显示，不同种类的添加剂对腐蚀速率作用不同；硅片表面反射率测试
结果显示，所用添加剂对改善制绒后表面光学均匀性有积极作用。通过对添加剂组分配方的优化，在
不改变制绒工艺条件的基础上制得腐蚀深度3.5~4.5 μm 、表面反射率20% ～21%的多晶硅片，有望使现
有产线制绒效果得到改善。
关键词：多晶硅绒面；腐蚀深度；表面特征；反射率
中图分类号：TM914.4 文献标志码：A 文章编号：1671-8887（2016 ）02-0003-04
DOI ：10.16786/j.cnki. 1671-8887.eem.2016.02.001
Effect of Additives in the Acid System on
Polycrystalline Silicon Wafer Textured Surface
ZHANG Yuan-cheng, HU Peng-nian, WANG Xun-chun, ZHAO Xin-kan
(Shanghai Solar Energy Research Center Co., Ltd., Shanghai 200241, China)
Abstract: The silicon wafer has been textured by the HNO -HF system with additives. The surface
3
appearance and optical characterization of the silicon wafer are analyzed. The corrosion depth
results show that different kinds of additives have different effects on the corrosion rate. The
silicon surface reflectivity test results show that the additive has a positive effect on improving the
optical homogeneity of the textured surface. By optimizing additive formulation, the polycryst
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