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多晶硅装置中洁净要求下的自动化工程设计
第22卷 第2期 仪器仪表用户 EIC Vo1.22
2015年4月 NSTRUM EN1_ATlON 2015 No.2
多晶硅装置中洁净要求下的自动化工程设计
张公明 ,刘德斌
(1.东华工程科技股份有限公司,合肥 230024;2.贵州东华工程股份有限公司,贵阳 550002)
摘 耍 :本文主要介绍了目前多晶硅装置中广泛应用的洁净生产技术。结合实际应用项 目,阐述了洁净设计对于多
晶硅产品质量的重要性。通过简单叙述多晶硅还原车间的生产流程 ,将 自动化工程划分为内外两个系统:内部系
统,针对仪表材料、结构型式、安装流程等方面,提供了常用的仪表设计方法;外部系统,通过对洁净室空气净化
系统的 自动控制操作要求进行分析 ,提出了自动控制解决方案。
关键词:多晶硅;工程设计; 自动化;暖通工程;洁净要求
中图分类号:TP273 文献标识码:A 文章编号:1671—1041(2015)02—0023—03
TheAutomationEngineerDesignforCleanRequirementinPolysiliconPlant
ZhangGongming ,LiuDebin
(1~EastChinaEngineeringScienceandTechnologyCo.,Ltd.,Hefei230024,China;2.GuizhouEastChinaEngineeringCo.,Ltd.,
Guiyang550002,China)
Abstract:Theessaymainlyprobesintothecleanmanufacturingtechniques,whicharewidelyusedinpresent:industrial
polysiliconplant.Byincorporatingpracticalprojects.emphasishasbeengiventocleandesign.Briefanalysisi§adetothe
productionprocessintheCVDReactorplant,andthentheautomationengineerwhichisappliedintheprocesssh0 bf ivid
intotwosystems:Fortheinternalsystem,thecommoninstrumentcleandesignmethodisprovidedintheseaspectsofmaterials,
structure,andinstallation;Fortheexternalsystem,automaticcontrolandoperationrequirementhavebeenanalyzedithus,the
automaticsolutionissuppliedtomeetcleanrequirementinHVAC.
Keyword$:polysilieon;engineerdesign;automation;HVACengineering;cleanrequirement
0 引言 按照行业 内对多晶硅等级 的划分概念,金属杂质含量
在ppba数量级 。对于金属等杂质含量而言,电子级多晶硅
当世界经济快速发展 ,伴随着化石能源的危机 ,太阳 纯度高于9N(99.9999999%,也就是9个 “9”,下同)|_
能作为无污染新型能源,逐渐得到各国政府支持和机构研 太阳能级的纯度高于6N (6个 “9”);一般冶金级的纯度
究。到 目前为止 ,太阳能光伏工业主要还是建立在硅材料 只有2N~3N (2-3个 …9’)。因此,从这个角度来说。
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