偏二甲肼在氟化镁涂层表面的吸附与反应.pdfVIP

维普资讯 第18卷 第3期 化 学 物 理 学 报 Vo1．18．No．3 2005年6月 CHINESEJOURNALOFCHEMICALPHYSICS June2oo5 1oo3．7713／2oo5／03-406．5 偏二甲肼在氟化镁涂层表面的吸附与反应 舒勇华，刘宏立，樊 菁”，崔季平 (中国科学院力学研究所高温气体动力学重点实验室，北京 ~ooo8o) 摘 要： 研究了偏二甲肼在氟化镁涂层表面的吸附和化学反应情况．首先用液相或气相偏二甲肼沾染氟化镁涂 层表面，再将涂层置于真空环境足够长时间，然后通过对比沾染前、后涂层表面的红外吸收光谱、x射线光电子 能谱和漫反射率，了解涂层表面的吸附状况和性能变化．实验表明，覆盖于氟化镁涂层表面的偏二甲肼液膜分子， 在真空环境下充分脱附的时间约为2h，充分脱附后的涂层表面只有单层化学吸附存在，其质量密度约为 27ng／cm ，实验后氟化镁涂层表面的漫反射率下降了10％一15％；在一10℃的偏二甲肼饱和蒸气中沾染 10min 后，氟化镁涂层表面的原子组成和漫反射率变化很小，红外吸收光谱也没有偏二甲肼特征峰出现． 关键词： 偏二甲肼；氟化镁涂层；表面吸收光谱；漫反射率 中图分类号：V211．73 文献标识码：A AbsorptionandReactionsof1，1-dimethyl-hydrazineon theSurfaceofM agnesium FluorideCoating ShuYonghua， LiuHongli， FanJing”， CuiJiping (KeyLaboratoryofHighTemperatureGasDynamics，InstituteofMechanics，ChineseAcademyofSciences，Belting 100080) Abstract Theabsorptionandchemicalreactionsof1，1一dimethyl·hydrazine(C2H8N2)onthesurfaceof magnesiumfuoride(MgF2)coatingwasstudied．ThecoatingsurfaceisfirstlycontaminatedbyliquidorgafleouS C2H8N2，andthenitisplacedintoavacuum environmentforalongperiod．Contrastinghteinfraredabsoprtion spectra，X—rayphotoelectron energy spectraand diffusivereflectivityofMgF2coatingsurfacesbeforenadafter experiment，itmaybelearnedthattheabsoprtionandchemicalreactionsoccurathtesurface．Th eexperimental resultsshow thatthemoleculesofaliquidfilm ofC2H8N2overMgF2coatingsurfacetakeabouttwohourstodesorb adequatelyinavacuum environment，afterhteadequatedeosprtion，htereonlyexistsasinglechemicalabsoprtion layeroverhtecoatingsurface，wiht amassdensityofbaout27ng／cm ．Th ediffusivereflectivityofMgF2coating surfacedecreasesabout10％ 一15％ afterthecontaminationofliquidC2H8N2．Fo