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辉光放电质谱法测定高纯钴中痕量杂质元素

2015年 6月 云南冶金 Jun.2015 第 44卷第 3期 (总第 252期) YUNNAN MEIAlU URGY Vo1.44.No.3 (Sum252) 辉光放 电质谱法测定高纯钴中痕量杂质元素 杨海岸 ,罗 舜 ,刘英波 ,闫豫昕 ,施 昱 (1.昆明冶金研究院,云南 昆明 650031; 2.国家有色金属产品质量监督检验中心 (昆明),云南 昆明 650031) 摘 要:采用辉光放电质谱法 (GD—MS)测定高纯钴中Na、K、Fe、Nj、Cu等 14个痕量杂质元素。找出了 合适的样品预处理方法,讨论了最佳仪器工作参数和样品预溅射时间的选择,探讨了如何选择合适的分析同位素 及分辨率模式来减小同位素干扰的影响。分析了GD—MS测定痕量杂质元素的精密度,并将分析结果与高纯钴样 品出厂标定值进行比对以验证GD—MS无标直接分析的准确程度。结果表明,辉光放电质谱法是直接分析高纯钴 材料的有效分析方法。 关键词:辉光放电质谱法;高纯钴;痕量元素 中图分类号:0657.63 文献标识码:A 文章编号:1006--0308 (2o15)03-0061-05 DeterminationoftheTraceImpurityElementsinHighPurityCobaltby Glow DischargeMassSpectrometry YANG Hai—an ,LUO Shun ,LIUYing—bo ,YANYu—xin ,SHIYu ’ (1.KunmingMetallurgicalResearchInstitute,Kunming,Yunnan650031,China; 2.NationalQualitySupervisionandTestingCenterforNon--~eT/OUSMetalsProducts(Kunming), Kunming,Yunnan650031,China) ABSTRACT:Na,K,Fe,Ni,Cuandtheotherninetraceimpuri~elementsinhighpuritycobaltisdeterminedbyglowdischarge massspectrometry(GD—Ms).TheproperpretreatmentmehtodofsamplesaI_efoundout,theoptimalinstrumentsworkingparametersand sma plepresputtertimeisdiscussed.aswellashowtoselecttheproperanalysisisotopesandresolutionmodelstodecreasetheisotopesinter- fetingeffect.Th eprecisiondegreeoftraceimpuritieselementsdeterminedbyGD-MSisanalyzed.andhteanalysisresultsa comparedto thefactorycalibrationvaluetotesttheaccuracydegreeofGD-MSdirectnaalysiswihtoutcalibration.Theresultsshow glowdischargemass spectrometry ishteeffectnaalysismethodfordirectnaalysisofhighpuritycobaltmaterials. KEYWORDS:glOWdischargemassspecrtometry;hishpuritycobalt;rtaceelements 钴是一种具有铁磁性和延展性的银灰色金属, Li、Be B、Na、Mg、A1、Si P S K Ca、Ti 高纯钴是指纯度在4N (99.99%)以上的金属

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