薄膜物理与技术实验报告.pdfVIP

薄 膜 物 理 与 技 术 实 验 报 告 班级： 应用物理学二班（2013050802 ） 组长： 张擎天 成员： 罗亮、王滔、赵乾颖、王旭东、 敬俊、廖杰、刘清正、胡晓军、钟谊新、毕磊 2015-2016 第2 学期 目录 一、热蒸发镀膜4 1.1 实验设备4 1.2 实验原理5 1.3 实验过程6 1.4 实验用途7 二、磁控溅射镀膜实验8 2.1 实验设备8 2.2 实验原理8 2.3 实验过程9 2.4 实验用途 10 三、薄膜后期退火处理 11 3.1 实验设备 11 3.2 实验原理 11 3.3 实验过程 11 3.4 实验用途 12 四、光学膜厚仪测量薄膜厚度 13 4.1 实验设备 13 4.2 实验原理 13 4.3 实验过程 14 4.4 实验用途 15 五、XRD 衍射分析薄膜结构 16 5.1 实验设备 16 5.2 实验原理 16 5.3 实验过程 17 5.4 实验用途 17 六、分光光度计测薄膜光学特性 19 6.1 实验设备 19 6.2 实验原理 19 6.3 实验过程 19 6.4 实验用途20 七、霍尔效应测量薄膜电学特性21 7.1 实验设备21 7.2 实验原理21 7.3 实验过程22 7.4 实验用途24 八、实验感想25 1.张擎天：25 2.罗 亮：26 3.王 滔：26 4.赵乾颖：26 5.王旭东：27 6.敬 俊：28 7.廖 杰：29 8.刘清正：30 9.胡晓军：31 10.钟谊新：31 11.毕 磊：32 一、热蒸发镀膜 --张擎天 1.1 实验设备 ZHD-300M2 电阻真空镀膜机、基片、擦镜纸、蒸发舟。 1.2 实验原理 蒸发法镀膜是将固体材料置于真空室内，在真空条件下，将固体材料加热蒸 发，蒸发出来的原子或分子能自由地分布到容器的器壁上。当把一些加工好的基 板材料放在其中时，蒸发出来的原子或分子就会吸附在基板上逐渐形成一层薄膜。 根据蒸发源不同，真空蒸发镀膜法又可以分为四种：电阻蒸发源蒸镀法；电子束 蒸发源蒸镀法；高频感应蒸发源蒸镀法；激光束蒸发源蒸镀法。本实验采用电阻 蒸发源蒸镀法制备金属薄膜材料。 蒸发镀膜，要求从蒸发源出来的蒸汽分子或原子，到达被镀膜基片的距离要 小于镀膜室内残余气体分子的平均自由程，这样才能保证蒸发物的蒸汽分子能无 碰撞地到达基片表面。保证薄膜纯净和牢固，蒸发物也不至于氧化。 气体分子运动平均自由程公式： kT 3.67 103 =  (米) 2 2d p p 式中：d 为分子直径，T 为环境温度（K），p 为气体压强（帕