振幅分割无掩模激光干涉光刻实现方法.pdf

第 31卷第2期 光电工程 Vo1．31，No．2 2004年 2月 Opto-．ElectronicEngineering Feb，2004 文章编号：1003—501X(2004)02--0011405 振幅分割无掩模激光干涉光刻的实现方法 张 锦 ，冯伯儒 ，郭永康 (1．中国科学院光 电技术研究所微细加：l光学技术国家重点实验室，四JIl 成都 610209： 2． 四川I大学物理系 ，四』Il 成都 610064) 摘要：无掩模激光干涉光刻 中的分束方法一般有波前分割和振幅分割。研究和比较 了振幅分割无 掩模激光干涉光刻方法和系统，包括振幅分割双光束干涉系统、三光束干涉系统、液浸式深紫外 干涉系统及全 自动干涉光刻系统。建立了双光束双曝光干涉光刻实验系统。模拟和实验结果表明， 对点阵或孔阵图形，在 同样的图形尺度下，无掩模干涉光刻比传统光刻简单得多。 关键词 ：干涉光刻；激光光刻；振幅分割；无掩模 中图分类号：TN305．7 文献标识码：A ImplementationM ethodsforAmplitudeDivision M asklqessLaserInterfe~rencePh0t0lith0graphy ZHANG Jin ，FENG Bo-ru ，‘GUO Yong-．kang (1．StateKeyLaboratoryofOpticalTechnologiesforMicrofabrication，Instituteof OpticsandElectronics，ChineseAcademyofSciences，Chengdu610209，China； 2．DepartmentofPhysics，SichuanProvince，Chengdu610064，China) Abstract：Thebeam divisionmethodinmasklesslaserinterferencephOtOlithOgraphycanbedivided intowave-·frontdivision andamplitudedivision．Themethodsandsystems (including amplitude divisiondouble,-beam interferencesystem，three-beam interferencesystem，liquidimmersiontypedeep UV interferencesystem andfullautomaticinterferencephotolithographicsystem)foramplitudedivision masklesslaserinterferencephOtOlithOgraphyarestudiedandcompared．Anexperimentaldouble．beam and double—exposure interference phOtOlithOgraphic system has been estabfished．Simulation and experimentsshow thatforpointarrayorholearraypatternswiththesamesizesmasklessinterference phOtOlithOgraphyismuchsimplethanthetraditionalphotolithography． Keywords：Interferometriclithography；LaserphOtOlithOgraphy；Amplitudedivision；M askless 引 言 无掩模激光干涉光刻以不需用掩模、昂贵的透镜系统、新的光源或短波长光源或新的抗蚀剂等优点， 用容易得到的近紫外和可见激光源，辅以少量次数的曝光产生复杂的一维和二维周期结构，提供了大场深 和大芯片尺