材料合成与制备技术ch5.pptxVIP

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材料合成与制备技术ch5

1;2;3;4;5;6;这个叫“希望之星”的名钻,并不重,44.50ct。传说就是泰坦尼克号女主人公罗丝的那块。极富传奇色彩,1642年产自印度。传说它传到谁手中,其主人必遭厄运。 它从印度传到法国富商,后献给法王路易十四。前者被野狗咬死,后者得了天花死去。 又传给路易十五,在法国大革命中被砍头; 后传给路易十六,他也被送上断头台。 后被盗,在伦敦市场又露面,被一银行家霍普(Hope)买下,从此该钻定名为“希望之星”,后来银行家穷困潦倒; 以后又传到土耳其商人手中,该家车祸翻下悬崖; 1911年传到美国,现藏于美国一家博物馆。;8;;10;11;12;13;14;15;16;17;18;19;20;21;22;23;24;25;;27;28;29;30;31;32;33;34;35; 升华-凝结示意图 1-原料,2-晶体 ;37;; 典型的分子束外延(MBE)装置示意图 ; MOCVD生长设备示意图 金属有机化学气相外 延淀积(或金属有机气相外???) ; 化学束外延(CBE)装置示意图 ; 离子束沉积(IBD)沉积装置示意图 1-离子源;2-磁分析器;3-电四极透镜;4-磁四极透镜;5-偏转板;6-减速透镜;7-超高真空外延生长室;8-衬底;9-真空泵系统 (减低沉积温度); (a)热丝CVD(HFCVD)装置图 CVD技术制备金刚石薄膜装置示意图 ; (b)微波等离子体CVD装置图 CVD技术制备金刚石薄膜装置示意图 微波电子回旋共振等离子体CVD(MWECR -CVD)技术 .该技术的特点是 :不含电极 ,可避免电极溅射造成的污染 ;等离子区离子密度高 ,能高度分解 ,从而可显著提高薄膜生长速率 ;改变磁场位形和结构 ,可改变等离子体分布及轰击基片离子的能量 . ; (c)直流等离子体喷射CVD装置图 CVD技术制备金刚石薄膜装置示意图; 气-液-固(VLS)生长机制示意图 ; VLS法生长金刚石晶须 ;48;49;50;51;52;53;54;55;56;57;58;59;60;61;62;63;64;65;66

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