具有低表面自由能有机介电薄膜的制备及表征.pdfVIP

物理化学学报 (WuliHuaxueXuebao1 July Acta尸 ．一Chim．Sin．2011，27(7)，1777—1782 1777 A【rticle] Ⅵ，、V、V．whxb．pku．edu．cn 具有低表面 自由能有机介电薄膜的制备及表征 刘应辉 康志新 (华南理工大学机械与汽车工程学院，国家金属材料近净成形工程技术研究中心，广州510640) 摘要： 通过 自主开发的有机镀膜技术在Mg—Mn，Ce镁合金表面制备了具有低表面 自由能和较高介 电常数的 有机纳米薄膜．利用X射线光 电子能谱(xps)分析了表面有机镀膜过程的反应机理，借助傅里i】十变换红外 (FT．IR)光谱进一步‘确认表面有机膜层的存存，采用接触角测量仪测定了有机薄膜的蒸馏水接触角和表面 自山 能变化，使用椭圆偏振光谱仪研究了薄膜的厚度，并借助精南阻抗分析仪计价了薄膜的介 电性能．有机镀膜后 镁合金表面形成了 一层纳米级厚度的有机薄膜，接触角从基体的70．8。上升至 15O．5。，表面 自由能从基体的 37．96mJm· 降低到157mJm·～，镁合金表面从亲水性转变为疏水性：薄膜的厚度和质量随有机镀膜时间延 长先增加后有所减小，在镀膜20min时薄膜性能最佳，此时膜重达剑23．5Pg·cm～，膜厚最大为 147．48nm，其 相对介 电常数也达到最大．在 1kHz下可达24．922． 关键词：有机镀膜：纳米薄膜：疏水：表面 自由能：介 电薄膜 中图分类号： 0646 PreparationandCharacterizationofaPolymericDielectricFiIm witha Low SurfaceFreeEnergy LIUYing—Hui KANG Zhi—Xin fNationalEngineeringResearchCenterofNear-Net—ShapeFormingforMetallicMaterials．SchoolofMechanical＆Automotive Engineering,SouthChinaUniversityofTechnology,Guangzhou51064~ R．China1 Abstract： ApolymericnanOfiImwithalow surfacefreeenergyandhighdielectricconstantonthesurface ofaMg-Mn—Cemagnesium alloywaspreparedbya self-deVelODed techniquewhichwasdesigned as polymerplating．Thereactionmechanism duringpolymerplatingwasanalyzedbyX—rayphotoelectron spectroscopyfXPS)．Thef¨mformedonthemagnesiumalloysurfaceasdeterminedbyFouriertransform infrared (FT-IR)spectroscopy．Thecontactangleofdistilledwaterandthesurfacefreeenergyofthe polymericfilm were determined using a contactangle meter．The f¨m thicknesswascharacterized by spectroscopicellipsometry．ThedielectricpropeRyofthefiIm