单分散纳米二氧化硅的可控制备以及高浓度正硅酸乙酯条件下的反应机理.pdfVIP

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2017-06-01 发布于天津
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单分散纳米二氧化硅的可控制备以及高浓度正硅酸乙酯条件下的反应机理

化学工程师 ChemicalEngineer 2016年第O7期 DOI：10．162470．cnki．23—1171Aq 科研与；单分散纳米二氧化硅的可控制备发： p 以及高浓度正硅酸乙酯条件下的反应机理 |l‘ r 赵立强 1．2，南泉，金花予 f (1．青岛科技大学化学与分子工程学院。山东青岛261500；2．中国科学院金属研究所表面工程研究部。辽宁沈阳 110106) P 摘要：采用Stt~ber法，在 60~C，正硅酸乙~ (TEOS)浓度为lmolL·-的条件下制备得到粒径为55nm的 SiO，多分散指数(PolydispersityIndex，PDI)为0．05，显示了良好的单分散性，找到了一种在高TEOS浓度、高温条件下制备单分散纳米SiO 的方法，并探讨了制备机理。同时还研究了TEOS、水和NH，H·20浓度以及反应温度对产物颗粒粒径及其分布的影响。 e 关键词：Sttiber法；纳米二氧化硅；单分散；制备机理 l 中图分类号：0643．12 文献标识码：A Controllablepreparationofmonodispersesilicaandtheformationmechanism underhteconditionoflligh o concentrationof ZHAOLi-qiang．NANQuan,JINHua-zi i (1．CollegeofChemistryandMolecularEngineering，QingdaoUniversityofScienceandTechnology，Qingdao261500，China； 2．SurfaceEngineeringofMaterialsDivision，InstituteofMetalResearchChineseAeadamyofScience，Shenyangl10016，China) Abstract：Nanometersilicahasbeen preparedthrough St~bermethodwith high concentration ofTEOS at 60℃ ．ThePolydispersityIndexisequM to0．05．whichshowsgoodmonod ispemion．Thisisamethodofpreparing g monodispemenanosilicon dioxideathighTEOSconcentrationandhightemperature．Meanwhile，thepreparation mechanismandt}leeffeetofthetemperatureandtheconcentrationofTEOS，H2OandNH3·H20ontheparticle sizeanditsdistributionarestudied． KeyW ords：Sti~bermethod；nanometersilica；monodispeme；preparationmechanism